宿系之源光果甘草雙重凈肌面膜
品牌:宿系之源
企業:浙江大美十網路技術有限公司
分類:其他面膜
成分 概略特性 活性 風險 安心度
WATER@!@AQUA
皮膚調理,溶劑 1
甘油
GLYCERIN
皮膚防護,皮膚調理,頭髮調理,口腔護理,保濕,變性劑,溶劑,黏度控制 1-2
丁二醇
BUTYLENE GLYCOL
皮膚調理,保濕,溶劑,黏度控制 1
甜菜鹼
BETAINE
皮膚調理,頭髮調理,保濕,抗靜電,表面活性劑,黏度控制 1
煙酰胺
NIACINAMIDE
抗糖化,抗衰,皮膚調理,抗氧化,頭髮調理,去角質,保濕 1
生物糖 膠-1
BIOSACCHARIDE GUM-1
皮膚調理,保濕 1
積雪草(CENTELLA ASIATICA)提取物
CENTELLA ASIATICA EXTRACT
修護,舒敏,皮膚調理,抗氧化,保濕,清潔劑 1
水解小核菌(SCLEROTIUM ROLFSSII)膠
HYDROLYZED SCLEROTIUM GUM
抗衰,皮膚防護,皮膚調理,保濕,成膜劑
茶(CAMELLIA SINENSIS)葉提取物
CAMELLIA SINENSIS LEAF EXTRACT
抗衰,皮膚防護,皮膚調理,收斂,抗氧化,口腔護理,保濕,柔潤劑 1-2
黃芩(SCUTELLARIA BAICALENSIS)根提取物
SCUTELLARIA BAICALENSIS ROOT EXTRACT
抗衰,舒敏,收斂,抗氧化,保濕 1
虎杖(POLYGONUM CUSPIDATUM)根提取物
POLYGONUM CUSPIDATUM ROOT EXTRACT
抗衰,皮膚調理,抗氧化 1
光果甘草(GLYCYRRHIZA GLABRA)根提取物
GLYCYRRHIZA GLABRA (LICORICE) ROOT EXTRACT
舒敏,皮膚調理,保濕,柔潤劑 5
迷迭香(ROSMARINUS OFFICINALIS)葉提取物
ROSMARINUS OFFICINALIS (ROSEMARY) LEAF EXTRACT
抗衰,皮膚調理,收斂,抗氧化 1
母菊(CHAMOMILLA RECUTITA)花提取物
CHAMOMILLA RECUTITA (MATRICARIA) FLOWER EXTRACT
抗衰,舒敏,皮膚調理,抗氧化 2
黃原膠
XANTHAN GUM
皮膚調理,膠凝劑,增稠劑,清潔劑,粘合劑,表面活性劑,黏度控制,乳化劑,乳化穩定劑 1
透明質酸鈉
SODIUM HYALURONATE
抗衰,皮膚調理,保濕 1
銀耳(TREMELLA FUCIFORMIS)提取物
TREMELLA FUCIFORMIS (MUSHROOM) EXTRACT
皮膚調理,抗氧化,保濕 1
酵母提取物
YEAST EXTRACT@!@FAEX
修護,抗衰,皮膚防護,皮膚調理,保濕,抗氧化 1
大豆氨基酸類
SOY AMINO ACIDS
皮膚調理,頭髮調理,柔潤劑 1
水解透明質酸鈉
HYDROLYZED SODIUM HYALURONATE
皮膚調理,頭髮調理,保濕 1
羥丙基三甲基氯化銨透明質酸
HYDROXYPROPYLTRIMONIUM HYALURONATE
皮膚調理,保濕,成膜劑 1
棕櫚酰三肽-5
PALMITOYL TRIPEPTIDE-5
抗衰,皮膚調理,抗氧化 1
EDTA 二鈉
DISODIUM EDTA
螯合劑,黏度控制 1
1,2-己二醇
1,2-HEXANEDIOL
皮膚調理,保濕,溶劑 1
辛酰羥肟酸
CAPRYLHYDROXAMIC ACID
螯合劑 1

溫馨提示:
1、 綠色表示安全。橙色表示較安全。紅色表示潛在風險成分。灰色表示暫無數據。
2、安全風險從0-10,數字越高代表風險越大,主要針對長期使用之安全性進行評估。
3、致痘風險等級分為【低-中-高】,如沒有標記,則代表此成分無致痘風險。