赫蓮娜活顏修復舒緩面膜
品牌:赫蓮娜
企業:赫蓮娜
分類:其他面膜
成分 概略特性 活性 風險 安心度
WATER@!@AQUA
皮膚調理,溶劑 1
甘油
GLYCERIN
皮膚防護,皮膚調理,頭髮調理,口腔護理,保濕,變性劑,溶劑,黏度控制 1-2
變性乙醇
ALCOHOL DENAT.
收斂,消泡劑,溶劑,黏度控制 酒精 1
羥丙基四氫吡喃三醇
HYDROXYPROPYL TETRAHYDROPYRANTRIOL
抗衰,皮膚調理,抗氧化 1
聚二甲基硅氧烷
DIMETHICONE
皮膚防護,皮膚調理,頭髮調理,成膜劑,柔潤劑,消泡劑 硅油 1-3
丙二醇
PROPYLENE GLYCOL
皮膚調理,保濕,溶劑,黏度控制 3
卡波姆
CARBOMER
膠凝劑,增稠劑,黏度控制,乳化穩定劑 1
苯氧乙醇
PHENOXYETHANOL
防腐劑 一般防腐劑 2-4
聚二甲基硅氧烷醇
DIMETHICONOL
皮膚調理,頭髮調理,保濕,增稠劑,柔潤劑,消泡劑 硅油 1
透明質酸鈉
SODIUM HYALURONATE
抗衰,皮膚調理,保濕 1
氫氧化鈉
SODIUM HYDROXIDE
變性劑,pH調節劑 1-4
辛甘醇
CAPRYLYL GLYCOL
皮膚調理,頭髮調理,保濕,柔潤劑,氣味抑製劑,溶劑 1
水解透明質酸
HYDROLYZED HYALURONIC ACID
皮膚調理,頭髮調理,保濕,柔潤劑 1
EDTA 二鈉
DISODIUM EDTA
螯合劑,黏度控制 1
香精
PARFUM@!@AROMA
吸附劑,香精香料 香精香料
丁二醇
BUTYLENE GLYCOL
皮膚調理,保濕,溶劑,黏度控制 1
腺苷
ADENOSINE
抗衰,皮膚調理,保濕,抗氧化 1
甲基硅烷醇甘露糖醛酸酯
METHYLSILANOL MANNURONATE
皮膚調理,抗靜電 1
柳杉(CRYPTOMERIA JAPONICA)芽提取物
CRYPTOMERIA JAPONICA BUD EXTRACT
皮膚防護,皮膚調理
山梨酸
SORBIC ACID
不透明劑,防腐劑 一般防腐劑 2
香茅醇
CITRONELLOL
吸附劑,香精香料 香精香料 3-4
羥基香茅醛
HYDROXYCITRONELLAL
吸附劑,香精香料 香精香料 3-6
α-異甲基紫羅蘭酮
ALPHA-ISOMETHYL IONONE
皮膚調理,吸附劑,香精香料 香精香料 3-5
苎烯
LIMONENE
吸附劑,氣味抑製劑,溶劑,香精香料 香精香料 4-5
苯甲醇
BENZYL ALCOHOL
吸附劑,溶劑,防腐劑,香精香料,黏度控制,不透明劑 香精香料、一般防腐劑 4-6
芳樟醇
LINALOOL
吸附劑,氣味抑製劑,香精香料 香精香料 3
香葉醇
GERANIOL
吸附劑,香精香料 香精香料 3-5

溫馨提示:
1、 綠色表示安全。橙色表示較安全。紅色表示潛在風險成分。灰色表示暫無數據。
2、安全風險從0-10,數字越高代表風險越大,主要針對長期使用之安全性進行評估。
3、致痘風險等級分為【低-中-高】,如沒有標記,則代表此成分無致痘風險。