珂薇納夢幻滋養面膜
品牌:珂薇納
企業:寧波唯希生物科技有限公司
分類:其他面膜
成分 概略特性 活性 風險 安心度
WATER@!@AQUA
皮膚調理,溶劑 1
1,3-丙二醇
PROPANEDIOL
保濕,增稠劑,溶劑,黏度控制 2
甘油聚醚-26
GLYCERETH-26
保濕,表面活性劑,黏度控制 1
銀耳(TREMELLA FUCIFORMIS)多糖
TREMELLA FUCIFORMIS POLYSACCHARIDE
皮膚調理,成膜劑,乳化穩定劑
肌醇
INOSITOL
皮膚調理,保濕,頭髮調理,抗靜電,皮膚滲透劑 1
肌肽
CARNOSINE
抗糖化,抗衰,舒敏,皮膚調理,抗氧化,保濕 1
水解透明質酸鈉
HYDROLYZED SODIUM HYALURONATE
皮膚調理,頭髮調理,保濕 1
β-葡聚糖
BETA-GLUCAN
修護,舒敏,皮膚調理,保濕 1
棕櫚酰三肽-5
PALMITOYL TRIPEPTIDE-5
抗衰,皮膚調理,抗氧化 1
棕櫚酰三肽-1
PALMITOYL TRIPEPTIDE-1
抗衰,皮膚調理,抗氧化 1
棕櫚酰五肽-4
PALMITOYL PENTAPEPTIDE-4
抗衰,皮膚調理,抗氧化 1
六肽-9
HEXAPEPTIDE-9
皮膚調理,抗衰 1
三肽-1
TRIPEPTIDE-1
抗衰,皮膚防護,皮膚調理,抗氧化 1
棕櫚酰四肽-7
PALMITOYL TETRAPEPTIDE-7
抗衰,皮膚調理 1
寡肽-1
OLIGOPEPTIDE-1
抗衰,皮膚調理,抗氧化,保濕 1
甘油磷酸肌醇膽鹼鹽
GLYCEROPHOSPHOINOSITOL CHOLINE
皮膚防護,皮膚調理
桑(MORUS ALBA)葉提取物
MORUS ALBA LEAF EXTRACT
皮膚調理,抗氧化,保濕 1
巨藻(MACROCYSTIS PYRIFERA)提取物
MACROCYSTIS PYRIFERA (KELP) EXTRACT
皮膚調理,黏度控制 1
木糖醇
XYLITOL
皮膚調理,保濕 1
木糖醇基葡糖苷
XYLITYLGLUCOSIDE
皮膚調理,保濕 1
脫水木糖醇
ANHYDROXYLITOL
皮膚調理,保濕 1
玉米穀蛋白氨基酸類
CORN GLUTEN AMINO ACIDS
皮膚調理,頭髮調理,抗靜電,柔潤劑 1
水解小核菌(SCLEROTIUM ROLFSSII)膠
HYDROLYZED SCLEROTIUM GUM
抗衰,皮膚防護,皮膚調理,保濕,成膜劑
PEG/PPG-17/6 共聚物
PEG/PPG-17/6 COPOLYMER
溶劑,表面活性劑 含PEG的成分 3
聚丙烯酸鈉接枝澱粉
SODIUM POLYACRYLATE STARCH
增稠劑,成膜劑,粘合劑,黏度控制,乳化穩定劑 1
1,2-戊二醇
PENTYLENE GLYCOL
皮膚調理,保濕,增溶劑,溶劑 1
丁二醇
BUTYLENE GLYCOL
皮膚調理,保濕,溶劑,黏度控制 1
羥苯基丙酰胺苯甲酸
HYDROXYPHENYL PROPAMIDOBENZOIC ACID
皮膚調理 1
甘油
GLYCERIN
皮膚防護,皮膚調理,頭髮調理,口腔護理,保濕,變性劑,溶劑,黏度控制 1-2
1,2-己二醇
1,2-HEXANEDIOL
皮膚調理,保濕,溶劑 1
對羥基苯乙酮
HYDROXYACETOPHENONE
抗氧化 1

溫馨提示:
1、 綠色表示安全。橙色表示較安全。紅色表示潛在風險成分。灰色表示暫無數據。
2、安全風險從0-10,數字越高代表風險越大,主要針對長期使用之安全性進行評估。
3、致痘風險等級分為【低-中-高】,如沒有標記,則代表此成分無致痘風險。