描方御顏清潤凈膚潔面乳
品牌:描方御顏
企業:廣州市澳萊化妝品有限公司
分類:潔面乳
成分 概略特性 活性 風險 安心度
WATER@!@AQUA
溶劑 1
硬脂酸
STEARIC ACID
清潔劑,表面活性劑,乳化穩定劑 致痘風險等級(低) 1
甘油
GLYCERIN
保濕 1-2
月桂酸
LAURIC ACID
清潔劑,表面活性劑,乳化劑 致痘風險等級(高) 1
棕櫚酸
PALMITIC ACID
潤膚劑,清潔劑,表面活性劑 致痘風險等級(低) 1
氫氧化鉀
POTASSIUM HYDROXIDE
清潔劑,表面活性劑,pH調節劑 2-5
椰油酰胺丙基羥基磺基甜菜鹼
COCAMIDOPROPYL HYDROXYSULTAINE
皮膚調理,頭髮調理,增稠劑,抗靜電,清潔劑,表面活性劑,黏度控制 1
PEG-7 甘油椰油酸酯
PEG-7 GLYCERYL COCOATE
潤膚劑,清潔劑,溶劑,表面活性劑,乳化劑 含PEG的成分 1-4
棕櫚仁油酰胺 DEA
PALM KERNELAMIDE DEA
清潔劑,表面活性劑,黏度控制,乳化劑,乳化穩定劑 1-2
鯨蠟硬脂醇
CETEARYL ALCOHOL
皮膚調理,乳化穩定劑 1
丙二醇
PROPYLENE GLYCOL
保濕 3
氯化鈉
SODIUM CHLORIDE
皮膚調理,口腔護理,乳化穩定劑 1
苯氧乙醇
PHENOXYETHANOL
防腐劑 一般防腐劑 2-4
花生酸
ARACHIDIC ACID
清潔劑,表面活性劑,不透明劑,乳化劑 致痘風險等級(低) 1
(日用)香精
FRAGRANCE
吸附劑,香精香料 香精香料
EDTA 二鈉
DISODIUM EDTA
螯合劑 1
乙基己基甘油
ETHYLHEXYLGLYCERIN
皮膚調理,保濕 2
癸酸
CAPRIC ACID
清潔劑,表面活性劑,乳化劑 致痘風險等級(低) 1
肉豆蔻酸
MYRISTIC ACID
清潔劑,表面活性劑,乳化劑 致痘風險等級(中) 1
丁二醇
BUTYLENE GLYCOL
保濕 1
銀耳(TREMELLA FUCIFORMIS)子實體提取物
TREMELLA FUCIFORMIS SPOROCARP EXTRACT
抗氧化,保濕 1
燕麥(AVENA SATIVA)麩皮提取物
AVENA SATIVA (OAT) BRAN EXTRACT
抗衰,抗氧化,頭髮調理,保濕 1
庫拉索蘆薈(ALOE BARBADENSIS)葉提取物
ALOE BARBADENSIS LEAF EXTRACT
皮膚調理,抗氧化,口腔護理,保濕 1-3
蘋果(PYRUS MALUS)果提取物
PYRUS MALUS (APPLE) FRUIT EXTRACT
健美,抗氧化,抗衰,保濕 1
石榴(PUNICA GRANATUM)果皮提取物
PUNICA GRANATUM PERICARP EXTRACT
抗衰,皮膚調理,收斂,抗氧化

溫馨提示:
1、 綠色表示安全。橙色表示較安全。紅色表示潛在風險成分。灰色表示暫無數據。
2、安全風險從0-10,數字越高代表風險越大,主要針對長期使用之安全性進行評估。
3、致痘風險等級分為【低-中-高】,如沒有標記,則代表此成分無致痘風險。