~H2O+FOCUS植物酵素修護原液
品牌:水芝澳
企業:杭州華妝化妝品有限公司
分類:基底液/美容液/原液
成分 概略特性 活性 風險 安心度
WATER@!@AQUA
皮膚調理,溶劑 1
1,3-丙二醇
PROPANEDIOL
保濕,增稠劑,溶劑,黏度控制 2
丁二醇
BUTYLENE GLYCOL
皮膚調理,保濕,溶劑,黏度控制 1
甘油聚甲基丙烯酸酯
GLYCERYL POLYMETHACRYLATE
保濕,增稠劑,成膜劑,黏度控制 1
PVM/MA 共聚物
PVM/MA COPOLYMER
發用定型,增稠劑,成膜劑,抗靜電,粘合劑,黏度控制,乳化穩定劑 1
甜菜鹼
BETAINE
皮膚調理,頭髮調理,保濕,抗靜電,表面活性劑,黏度控制 1
1,2-戊二醇
PENTYLENE GLYCOL
皮膚調理,保濕,增溶劑,溶劑 1
卡波姆
CARBOMER
膠凝劑,增稠劑,黏度控制,乳化穩定劑 1
三乙醇胺
TRIETHANOLAMINE
清潔劑,表面活性劑,pH調節劑,乳化劑 致痘風險等級(低) 5
龍舌蘭(AGAVE AMERICANA)莖提取物
AGAVE AMERICANA STEM EXTRACT
皮膚調理 1
積雪草(CENTELLA ASIATICA)提取物
CENTELLA ASIATICA EXTRACT
修護,舒敏,皮膚調理,抗氧化,保濕,清潔劑 1
虎杖(POLYGONUM CUSPIDATUM)根提取物
POLYGONUM CUSPIDATUM ROOT EXTRACT
抗衰,皮膚調理,抗氧化 1
黃芩(SCUTELLARIA BAICALENSIS)根提取物
SCUTELLARIA BAICALENSIS ROOT EXTRACT
抗衰,舒敏,收斂,抗氧化,保濕 1
茶(CAMELLIA SINENSIS)葉提取物
CAMELLIA SINENSIS LEAF EXTRACT
抗衰,皮膚防護,皮膚調理,收斂,抗氧化,口腔護理,保濕,柔潤劑 1-2
光果甘草(GLYCYRRHIZA GLABRA)根提取物
GLYCYRRHIZA GLABRA (LICORICE) ROOT EXTRACT
舒敏,皮膚調理,保濕,柔潤劑 5
母菊(CHAMOMILLA RECUTITA)花提取物
CHAMOMILLA RECUTITA (MATRICARIA) FLOWER EXTRACT
抗衰,舒敏,皮膚調理,抗氧化 2
迷迭香(ROSMARINUS OFFICINALIS)葉提取物
ROSMARINUS OFFICINALIS (ROSEMARY) LEAF EXTRACT
抗衰,皮膚調理,收斂,抗氧化 1
對羥基苯乙酮
HYDROXYACETOPHENONE
抗氧化 1
酵母提取物
YEAST EXTRACT@!@FAEX
修護,抗衰,皮膚防護,皮膚調理,保濕,抗氧化 1
二裂酵母發酵產物濾液
BIFIDA FERMENT FILTRATE
皮膚調理,抗氧化 1
羥苯基丙酰胺苯甲酸
HYDROXYPHENYL PROPAMIDOBENZOIC ACID
皮膚調理 1
透明質酸鈉
SODIUM HYALURONATE
抗衰,皮膚調理,保濕 1
香精
PARFUM@!@AROMA
吸附劑,香精香料 香精香料

溫馨提示:
1、 綠色表示安全。橙色表示較安全。紅色表示潛在風險成分。灰色表示暫無數據。
2、安全風險從0-10,數字越高代表風險越大,主要針對長期使用之安全性進行評估。
3、致痘風險等級分為【低-中-高】,如沒有標記,則代表此成分無致痘風險。