蒓芝媄草本舒緩修護面膜
品牌:蒓芝媄
企業:深圳市純芝美美容有限公司
分類:其他面膜
成分 概略特性 活性 風險 安心度
WATER@!@AQUA
皮膚調理,溶劑 1
甘油
GLYCERIN
皮膚防護,皮膚調理,頭髮調理,口腔護理,保濕,變性劑,溶劑,黏度控制 1-2
卡波姆
CARBOMER
膠凝劑,增稠劑,黏度控制,乳化穩定劑 1
丙二醇
PROPYLENE GLYCOL
皮膚調理,保濕,溶劑,黏度控制 3
肌肽
CARNOSINE
抗糖化,抗衰,舒敏,皮膚調理,抗氧化,保濕 1
α-熊果苷
ALPHA-ARBUTIN
皮膚調理,抗氧化 1
煙酰胺
NIACINAMIDE
抗糖化,抗衰,皮膚調理,抗氧化,頭髮調理,去角質,保濕 1
丁二醇
BUTYLENE GLYCOL
皮膚調理,保濕,溶劑,黏度控制 1
1,2-戊二醇
PENTYLENE GLYCOL
皮膚調理,保濕,增溶劑,溶劑 1
苯氧乙醇
PHENOXYETHANOL
防腐劑 一般防腐劑 2-4
海藻糖
TREHALOSE
皮膚調理,保濕,柔潤劑 1
PEG-12 聚二甲基硅氧烷
PEG-12 DIMETHICONE
皮膚調理,頭髮調理,柔潤劑,表面活性劑 硅油、含PEG的成分 3
花椒(ZANTHOXYLUM BUNGEANUM)果提取物
ZANTHOXYLUM BUNGEANUM FRUIT EXTRACT
抗衰,皮膚調理
甘草(GLYCYRRHIZA URALENSIS)根提取物
GLYCYRRHIZA URALENSIS (LICORICE) ROOT EXTRACT
舒敏,皮膚調理,抗氧化 4
牡丹(PAEONIA SUFFRUTICOSA)根提取物
PAEONIA SUFFRUTICOSA ROOT EXTRACT
皮膚防護,皮膚調理,抗氧化 1
龍膽(GENTIANA SCABRA)根提取物
GENTIANA SCABRA ROOT EXTRACT
皮膚調理,氣味抑製劑 1
母菊(CHAMOMILLA RECUTITA)花提取物
CHAMOMILLA RECUTITA (MATRICARIA) FLOWER EXTRACT
抗衰,舒敏,皮膚調理,抗氧化 2
羥乙基纖維素
HYDROXYETHYLCELLULOSE
頭髮調理,增稠劑,成膜劑,粘合劑,黏度控制,乳化穩定劑 1
羥苯甲酯
METHYLPARABEN
防腐劑,不透明劑 一般防腐劑、尼泊金酯類防腐劑 3-4
甲基異噻唑啉酮
METHYLISOTHIAZOLINONE
防腐劑,不透明劑 一般防腐劑、MIT/CMIT防腐劑 7
碘丙炔醇丁基氨甲酸酯
IODOPROPYNYL BUTYLCARBAMATE
防腐劑,不透明劑 一般防腐劑 4-5
聚山梨醇酯-20
POLYSORBATE 20
清潔劑,表面活性劑,乳化劑 3
甘草酸二鉀
DIPOTASSIUM GLYCYRRHIZATE
祛痘,舒敏,皮膚調理,保濕 1
透明質酸鈉
SODIUM HYALURONATE
抗衰,皮膚調理,保濕 1
香精
PARFUM@!@AROMA
吸附劑,香精香料 香精香料

溫馨提示:
1、 綠色表示安全。橙色表示較安全。紅色表示潛在風險成分。灰色表示暫無數據。
2、安全風險從0-10,數字越高代表風險越大,主要針對長期使用之安全性進行評估。
3、致痘風險等級分為【低-中-高】,如沒有標記,則代表此成分無致痘風險。