花印晶透修颜防晒隔离乳
品牌:花印
企业:株式会社科思美碧优蒂
分类:隔离霜/乳
成分 概略特性 活性 风险 安心度
WATER@!@AQUA
皮肤调理,溶剂 1
氧化锌
ZINC OXIDE
皮肤防护,皮肤调理,物理防晒,收敛,口腔护理,填充剂 1-6
环五聚二甲基硅氧烷
CYCLOPENTASILOXANE
皮肤调理,头发调理,增稠剂,柔润剂,溶剂 硅油 3
PEG-10 聚二甲基硅氧烷
PEG-10 DIMETHICONE
皮肤调理,头发调理,表面活性剂,乳化剂 硅油、含PEG的成分 3
聚二甲基硅氧烷/聚甲基硅氧烷共聚物
DIMETHICONE/METHICONE COPOLYMER
抗结块剂 硅油 1
丁二醇
BUTYLENE GLYCOL
皮肤调理,保湿,溶剂,黏度控制 1
甲氧基肉桂酸乙基己酯
ETHYLHEXYL METHOXYCINNAMATE
化学防晒,光稳定剂 化学防晒剂、孕妇慎用成分 5
聚二甲基硅氧烷
DIMETHICONE
皮肤防护,皮肤调理,头发调理,成膜剂,柔润剂,消泡剂 硅油 1-3
二氧化钛
TITANIUM DIOXIDE
物理防晒,不透明剂 1-6
氢氧化铝
ALUMINUM HYDROXIDE
皮肤防护,皮肤调理,保湿,增稠剂,柔润剂,黏度控制,不透明剂 1
三乙氧基辛基硅烷
TRIETHOXYCAPRYLYLSILANE
粘合剂 1
二硬脂二甲铵锂蒙脱石
DISTEARDIMONIUM HECTORITE
分散剂,增稠剂,悬浮剂,表面活性剂,黏度控制,乳化稳定剂 1
滑石粉
TALC
皮肤防护,吸附剂,填充剂,抗结块剂,摩擦剂,肤感调节剂,不透明剂 5-8
山梨(糖)醇
SORBITOL
皮肤调理,保湿 1
甘油
GLYCERIN
皮肤防护,皮肤调理,头发调理,口腔护理,保湿,变性剂,溶剂,黏度控制 1-2
三甲基硅烷氧基硅酸酯
TRIMETHYLSILOXYSILICATE
皮肤调理,成膜剂,柔润剂,消泡剂 1
甘油三(乙基己酸)酯
TRIETHYLHEXANOIN
皮肤调理,头发调理,抗静电,柔润剂,表面活性剂 1
硫酸镁
MAGNESIUM SULFATE
填充剂,黏度控制 1
丙烯酸(酯)类交联聚合物
ACRYLATES CROSSPOLYMER
成膜剂,乳化剂 1
乙醇
ALCOHOL
收敛,消泡剂,溶剂,黏度控制 酒精 1
异十三醇异壬酸酯
ISOTRIDECYL ISONONANOATE
皮肤调理,柔润剂 1
角鲨烷
SQUALANE
皮肤调理,头发调理,保湿,抗静电,柔润剂,赋脂剂 1
聚甘油-2 二异硬脂酸酯
POLYGLYCERYL-2 DIISOSTEARATE
乳化剂,表面活性剂 1
羟苯甲酯
METHYLPARABEN
防腐剂,不透明剂 一般防腐剂、尼泊金酯类防腐剂 3-4
苯氧乙醇
PHENOXYETHANOL
防腐剂 一般防腐剂 2-4
柠檬酸钠
SODIUM CITRATE
螯合剂,pH调节剂 1
生育酚乙酸酯
TOCOPHERYL ACETATE
抗衰,祛斑美白,皮肤调理,抗氧化,保湿 2-3
羟苯乙酯
ETHYLPARABEN
不透明剂,防腐剂 一般防腐剂、尼泊金酯类防腐剂 3
牛油果树(BUTYROSPERMUM PARKII)油
BUTYROSPERMUM PARKII (SHEA) OIL
皮肤调理,头发调理,柔润剂 1
生育酚(维生素E)
TOCOPHEROL
修护,抗衰,祛斑美白,皮肤调理,抗氧化,保湿 致痘风险等级(低) 1
母菊(CHAMOMILLA RECUTITA)花提取物
CHAMOMILLA RECUTITA (MATRICARIA) FLOWER EXTRACT
抗衰,舒敏,祛斑美白,皮肤调理,抗氧化 2
透明质酸钠
SODIUM HYALURONATE
抗衰,皮肤调理,保湿 1
可溶性胶原
SOLUBLE COLLAGEN
皮肤调理,保湿,头发调理,成膜剂,抗静电 1
甘草酸二钾
DIPOTASSIUM GLYCYRRHIZATE
祛痘,舒敏,祛斑美白,皮肤调理,保湿 1
尿囊素
ALLANTOIN
修护,舒敏,皮肤防护,皮肤调理,收敛,头发调理,保湿 1

温馨提示:
1、 绿色表示安全。橙色表示较安全。红色表示潜在风险成分。灰色表示暂无数据。
2、安全风险从0-10,数字越高代表风险越大,主要针对长期使用之安全性进行评估。
3、致痘风险等级分为【低-中-高】,如没有标记,则代表此成分无致痘风险。