润根源祛痘修护原液
品牌:润根源
企业:广州药妆日用化工有限公司
分类:基底液/美容液/原液
企业:广州药妆日用化工有限公司
分类:基底液/美容液/原液
成分 | 概略特性 | 活性 | 风险 | 安心度 |
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水
WATER@!@AQUA
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溶剂 | 1 | ||
库拉索芦荟(ALOE BARBADENSIS)叶汁
ALOE BARBADENSIS LEAF JUICE
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抗衰,皮肤调理,抗氧化,保湿 | 1-3 | ||
欧蒲公英(TARAXACUM OFFICINALE)根
TARAXACUM OFFICINALE (DANDELION) ROOT
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1 | |||
聚山梨醇酯-65
POLYSORBATE 65
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乳化剂 | 1-3 | ||
聚季铵盐-68
POLYQUATERNIUM-68
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发用定型,成膜剂,抗静电 | 1 | ||
丁二醇
BUTYLENE GLYCOL
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保湿 | 1 | ||
辛甘醇
CAPRYLYL GLYCOL
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保湿,溶剂 | 1 | ||
乳酸
LACTIC ACID
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祛痘,去角质,保湿,pH调节剂 | 1-4 | ||
1,2-己二醇
1,2-HEXANEDIOL
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保湿 | 1 | ||
PCA 钠
SODIUM PCA
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保湿,抗静电 | 1 | ||
生育酚(维生素E)
TOCOPHEROL
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紧致,抗皱,抗氧化 | 致痘风险等级(低) | 1-2 | |
透明质酸钠
SODIUM HYALURONATE
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修护,舒缓,抗衰,保湿 | 1 | ||
甘油
GLYCERIN
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保湿 | 1-2 | ||
燕麦(AVENA SATIVA)仁提取物
AVENA SATIVA (OAT) KERNEL EXTRACT
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皮肤调理,抗氧化,摩擦剂,润肤剂 | 1 | ||
丙二醇
PROPYLENE GLYCOL
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保湿 | 3 | ||
羟乙基脲
HYDROXYETHYL UREA
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皮肤调理,头发调理,保湿 | 1 | ||
卡波姆
CARBOMER
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增稠剂 | 1 | ||
双(羟甲基)咪唑烷基脲
DIAZOLIDINYL UREA
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防腐剂,不透明剂 | 一般防腐剂、甲醛释放体防腐剂 | 5 | |
碘丙炔醇丁基氨甲酸酯
IODOPROPYNYL BUTYLCARBAMATE
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防腐剂 | 一般防腐剂 | 5-6 | |
三乙醇胺
TRIETHANOLAMINE
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pH调节剂 | 致痘风险等级(低) | 6 | |
黄原胶
XANTHAN GUM
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增稠剂 | 1 | ||
尿囊素
ALLANTOIN
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舒缓,保湿 | 1 | ||
甲基异噻唑啉酮
METHYLISOTHIAZOLINONE
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防腐剂,不透明剂 | 一般防腐剂、MIT/CMIT防腐剂 | 7 |
温馨提示:
1、 绿色表示安全。橙色表示较安全。红色表示潜在风险成分。灰色表示暂无数据。
2、安全风险从0-10,数字越高代表风险越大,主要针对长期使用之安全性进行评估。
3、致痘风险等级分为【低-中-高】,如没有标记,则代表此成分无致痘风险。