佳简祛痘洗面奶
品牌:佳简
企业:山东赫姿生物科技有限公司
分类:洁面乳
成分 概略特性 活性 风险 安心度
WATER@!@AQUA
皮肤调理,溶剂 1
肉豆蔻酸
MYRISTIC ACID
柔润剂,清洁剂,表面活性剂,乳化剂 致痘风险等级(中) 1
丁二醇
BUTYLENE GLYCOL
皮肤调理,保湿,溶剂,黏度控制 1
磺酸羟丙酯月桂基葡糖苷交联聚合物钠
SODIUM HYDROXYPROPYLSULFONATE LAURYLGLUCOSIDE CROSSPOLYMER
增溶剂,清洁剂,表面活性剂,乳化剂 1
氢氧化钾
POTASSIUM HYDROXIDE
pH调节剂 2-5
棕榈酸
PALMITIC ACID
皮肤调理,柔润剂,表面活性剂,乳化剂 致痘风险等级(低) 1
月桂酸
LAURIC ACID
清洁剂,表面活性剂,乳化剂 致痘风险等级(高) 1
乙二醇二硬脂酸酯
GLYCOL DISTEARATE
皮肤调理,头发调理,增稠剂,柔润剂,表面活性剂,黏度控制,不透明剂,乳化剂 1
硬脂酸
STEARIC ACID
柔润剂,清洁剂,表面活性剂,赋脂剂,乳化剂,乳化稳定剂 致痘风险等级(低) 1
泊洛沙姆 407
POLOXAMER 407
清洁剂,表面活性剂,乳化剂 2
肉豆蔻酰胺丙基 PG-二甲基氯化铵磷酸酯
MYRISTAMIDOPROPYL PG-DIMONIUM CHLORIDE PHOSPHATE
皮肤调理,头发调理,抗静电 3
椰油酸钾
POTASSIUM COCOATE
清洁剂,表面活性剂,乳化剂,表面活性剂 1
椰油酰甘氨酸钾
POTASSIUM COCOYL GLYCINATE
头发调理,增泡剂,清洁剂,表面活性剂,表面活性剂 1
聚季铵盐-44
POLYQUATERNIUM-44
成膜剂,抗静电 1
椰油基羟乙基咪唑啉
COCOYL HYDROXYETHYL IMIDAZOLINE
头发调理,抗静电,清洁剂,表面活性剂 1
山茶(CAMELLIA JAPONICA)籽油
CAMELLIA JAPONICA SEED OIL
修护,抗衰,皮肤调理,抗氧化,柔润剂 1
互生叶白千层(MELALEUCA ALTERNIFOLIA)叶油
MELALEUCA ALTERNIFOLIA (TEA TREE) LEAF OIL
祛痘,皮肤调理,保湿,抗氧化 6
椰油酰胺 DEA
COCAMIDE DEA
保湿,增泡剂,清洁剂,表面活性剂,黏度控制,乳化剂,乳化稳定剂 7
羟丙基甲基纤维素
HYDROXYPROPYL METHYLCELLULOSE
增稠剂,成膜剂,抗静电,清洁剂,粘合剂,表面活性剂,黏度控制,乳化稳定剂 1
1,2-己二醇
1,2-HEXANEDIOL
皮肤调理,保湿,溶剂 1
氯苯甘醚
CHLORPHENESIN
防腐剂,不透明剂 一般防腐剂 3
苯氧乙醇
PHENOXYETHANOL
防腐剂 一般防腐剂 2-4
EDTA 二钠
DISODIUM EDTA
螯合剂,黏度控制 1
香精
PARFUM@!@AROMA
吸附剂,香精香料 香精香料
脯氨酸
PROLINE
皮肤调理,头发调理 1
苏氨酸
THREONINE
皮肤调理,头发调理,抗静电 1
异亮氨酸
ISOLEUCINE
皮肤调理,头发调理,抗静电,柔润剂 1
组氨酸
HISTIDINE
皮肤调理,保湿,头发调理,抗静电 1
苯丙氨酸
PHENYLALANINE
皮肤调理,头发调理,抗静电 1
PCA 钠
SODIUM PCA
皮肤调理,控油,头发调理,保湿,抗静电 1
乳酸钠
SODIUM LACTATE
去角质,保湿,pH调节剂 1-3
精氨酸
ARGININE
皮肤调理,头发调理,保湿,抗静电,pH调节剂 1
天冬氨酸
ASPARTIC ACID
抗衰,皮肤调理,抗氧化,头发调理,抗静电 1
吡咯烷酮羧酸
PCA
皮肤调理,头发调理,保湿 2
缬氨酸
VALINE
皮肤调理,头发调理,抗静电 1
丙氨酸
ALANINE
皮肤调理,抗氧化,头发调理,抗静电 1
丝氨酸
SERINE
皮肤调理,保湿,头发调理,抗静电 1

温馨提示:
1、 绿色表示安全。橙色表示较安全。红色表示潜在风险成分。灰色表示暂无数据。
2、安全风险从0-10,数字越高代表风险越大,主要针对长期使用之安全性进行评估。
3、致痘风险等级分为【低-中-高】,如没有标记,则代表此成分无致痘风险。