AVEENO POSITIVELY RADIANT MAXGLOW PEEL OFF MASK WITH AHAS + SOY + KIWI
品牌:艾惟诺
分类:其他面膜
成分 概略特性 活性 风险 安心度
WATER@!@AQUA
皮肤调理,溶剂 1
酵母发酵产物提取物
YEAST FERMENT EXTRACT
皮肤调理,抗氧化 1
EDTA 二钠
DISODIUM EDTA
螯合剂,黏度控制 1
聚乙酸乙烯酯
POLYVINYL ACETATE
成膜剂,抗静电,粘合剂,乳化稳定剂 3
柠檬酸
CITRIC ACID
去黑头,去角质,保湿,螯合剂,pH调节剂 1-2
1,2-己二醇
1,2-HEXANEDIOL
皮肤调理,保湿,溶剂 1
乙醇
ALCOHOL
收敛,消泡剂,溶剂,黏度控制 酒精 1
酵母提取物
YEAST EXTRACT@!@FAEX
修护,抗衰,皮肤防护,皮肤调理,保湿,抗氧化 1
黄原胶
XANTHAN GUM
皮肤调理,胶凝剂,增稠剂,清洁剂,粘合剂,表面活性剂,黏度控制,乳化剂,乳化稳定剂 1
丁二醇
BUTYLENE GLYCOL
皮肤调理,保湿,溶剂,黏度控制 1
纤维素胶
CELLULOSE GUM
增稠剂,成膜剂,粘合剂,黏度控制,乳化稳定剂 1
辛甘醇
CAPRYLYL GLYCOL
皮肤调理,头发调理,保湿,柔润剂,气味抑制剂,溶剂 1
苯氧乙醇
PHENOXYETHANOL
防腐剂 一般防腐剂 2-4
苯乙烯/丙烯酸(酯)类共聚物
STYRENE/ACRYLATES COPOLYMER
成膜剂,不透明剂 2
聚乙烯醇
POLYVINYL ALCOHOL
增稠剂,成膜剂,表面活性剂,黏度控制,乳化剂 1
甘油
GLYCERIN
皮肤防护,皮肤调理,头发调理,口腔护理,保湿,变性剂,溶剂,黏度控制 1-2
羟基乙酸
GLYCOLIC ACID
祛痘,皮肤调理,去角质,pH调节剂 1-4
库拉索芦荟(ALOE BARBADENSIS)叶水
ALOE BARBADENSIS LEAF WATER
抗氧化,保湿 1-3
变性乙醇
ALCOHOL DENAT.
收敛,消泡剂,溶剂,黏度控制 酒精 1
温泉水
ONSEN-SUI
溶剂
野大豆(GLYCINE SOJA)蛋白
GLYCINE SOJA (SOYBEAN) PROTEIN
皮肤调理,抗氧化,头发调理,表面活性剂,乳化剂 1
(日用)香精
FRAGRANCE
吸附剂,香精香料 香精香料
CI 19140
CI 19140@!@KI4
着色剂 色素 4-6
CI 42090
CI 42090@!@AO1@!@AO205
着色剂 色素 2-7

温馨提示:
1、 绿色表示安全。橙色表示较安全。红色表示潜在风险成分。灰色表示暂无数据。
2、安全风险从0-10,数字越高代表风险越大,主要针对长期使用之安全性进行评估。
3、致痘风险等级分为【低-中-高】,如没有标记,则代表此成分无致痘风险。