苏薇姿高魔朵青柠面膜成分表和安全分析 | 国妆备进字J20189234

苏薇姿高魔朵青柠面膜

品牌：苏薇姿
企业：唯美德国际有限公司
分类：其他面膜

成分	概略特性	风险	安心度
水 WATER@!@AQUA	皮肤调理,溶剂		1
来檬(CITRUS AURANTIFOLIA)果提取物 CITRUS AURANTIFOLIA (LIME) FRUIT EXTRACT	皮肤调理		1-4
苯氧乙醇 PHENOXYETHANOL	防腐剂	一般防腐剂	2-4
甘油 GLYCERIN	皮肤防护,皮肤调理,头发调理,口腔护理,保湿,变性剂,溶剂,黏度控制		1-2
1,2-己二醇 1,2-HEXANEDIOL	皮肤调理,保湿,溶剂		1
透明质酸钠 SODIUM HYALURONATE	抗衰,皮肤调理,保湿		1
乙基己基甘油 ETHYLHEXYLGLYCERIN	皮肤调理,保湿,柔润剂,气味抑制剂		2
丁二醇 BUTYLENE GLYCOL	皮肤调理,保湿,溶剂,黏度控制		1
聚丙烯酰胺 POLYACRYLAMIDE	增稠剂,成膜剂,抗静电,粘合剂		2-4
C13-14 异链烷烃 C13-14 ISOPARAFFIN	皮肤调理,柔润剂,溶剂		1
月桂醇聚醚-7 LAURETH-7	清洁剂,表面活性剂,乳化剂		1-3
橄榄油 PEG-8 酯类 OLIVE OIL PEG-8 ESTERS	皮肤调理,柔润剂,清洁剂,表面活性剂,乳化剂	含PEG的成分	3
苯乙烯/VP 共聚物 STYRENE/VP COPOLYMER	成膜剂,不透明剂
羟苯甲酯 METHYLPARABEN	防腐剂,不透明剂	一般防腐剂、尼泊金酯类防腐剂	3-4
(日用)香精 FRAGRANCE	吸附剂,香精香料	香精香料
PEG-60 氢化蓖麻油 PEG-60 HYDROGENATED CASTOR OIL	清洁剂,溶剂,表面活性剂,乳化剂	含PEG的成分	3
腺苷 ADENOSINE	抗衰,皮肤调理,保湿,抗氧化		1
羟苯丙酯 PROPYLPARABEN	防腐剂,不透明剂	一般防腐剂、尼泊金酯类防腐剂	9
甘氨酸 GLYCINE	皮肤调理,头发调理,抗静电		1
谷氨酸 GLUTAMIC ACID	皮肤调理,保湿,头发调理,抗静电		1
丝氨酸 SERINE	皮肤调理,保湿,头发调理,抗静电		1
半胱氨酸 CYSTEINE	皮肤调理,抗氧化,头发调理,抗静电		1
苯丙氨酸 PHENYLALANINE	皮肤调理,头发调理,抗静电		1
丙氨酸 ALANINE	皮肤调理,抗氧化,头发调理,抗静电		1
蛋氨酸 METHIONINE	抗衰,皮肤调理,抗氧化,头发调理,抗静电		1
脯氨酸 PROLINE	皮肤调理,头发调理		1
精氨酸 ARGININE	皮肤调理,头发调理,保湿,抗静电,pH调节剂		1
赖氨酸 LYSINE	皮肤调理,头发调理,抗静电		1
酪氨酸 TYROSINE	皮肤调理,头发调理,抗静电		1
亮氨酸 LEUCINE	皮肤调理,头发调理,抗静电		1
苏氨酸 THREONINE	皮肤调理,头发调理,抗静电		1
天冬氨酸 ASPARTIC ACID	抗衰,皮肤调理,抗氧化,头发调理,抗静电		1
缬氨酸 VALINE	皮肤调理,头发调理,抗静电		1
异亮氨酸 ISOLEUCINE	皮肤调理,头发调理,抗静电,柔润剂		1
组氨酸 HISTIDINE	皮肤调理,保湿,头发调理,抗静电		1
积雪草(CENTELLA ASIATICA)提取物 CENTELLA ASIATICA EXTRACT	修护,舒敏,皮肤调理,抗氧化,保湿,清洁剂		1
母菊(CHAMOMILLA RECUTITA)花提取物 CHAMOMILLA RECUTITA (MATRICARIA) FLOWER EXTRACT	抗衰,舒敏,皮肤调理,抗氧化		2

温馨提示：
1、绿色表示安全。橙色表示较安全。红色表示潜在风险成分。灰色表示暂无数据。
2、安全风险从0-10,数字越高代表风险越大，主要针对长期使用之安全性进行评估。
3、致痘风险等级分为【低-中-高】，如没有标记，则代表此成分无致痘风险。