日光之美高原晒后修护面膜
エンタープライズ：西藏坎巴嘎布卫生用品有限公司
分類：晒后修复
分類：晒后修复
| 成分 | 大まかな特性 | 活性 | 风险 | 安心度 |
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酵母菌/大米发酵产物滤液
SACCHAROMYCES/RICE FERMENT FILTRATE
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皮肤调理 |
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1 | |
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银耳(TREMELLA FUCIFORMIS)提取物
TREMELLA FUCIFORMIS (MUSHROOM) EXTRACT
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皮肤调理,抗氧化,保湿 |
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1 | |
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小麦(TRITICUM VULGARE)胚芽提取物
TRITICUM VULGARE (WHEAT) GERM EXTRACT
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皮肤防护,皮肤调理,抗氧化 |
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1 | |
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燕麦(AVENA SATIVA)提取物
AVENA SATIVA (OAT) EXTRACT
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皮肤调理,抗氧化,抗衰 |
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大籽蒿(ARTEMISIA SIEVERSIANA)提取物
ARTEMISIA SIEVERSIANA EXTRACT
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木糖醇
XYLITOL
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皮肤调理,保湿 | 1 | ||
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葡萄糖
GLUCOSE
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皮肤调理,保湿 |
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1 | |
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透明质酸钠
SODIUM HYALURONATE
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抗衰,皮肤调理,保湿 |
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1 |
暖かいヒント：
1、 緑はセキュリティを表します。オレンジは安全性を示す。赤色は潜在リスク成分を表す。グレー表示データなし。
2、セキュリティリスクは0～10で、数字が高いほどリスクが高くなります。主に長期使用のセキュリティを評価します。
3、ニキビリスク等級は【低-中-高】に分けられ、もし標識がなければ、この成分にニキビリスクがないことを代表する。