大飯殿复合酸枸杞祛痘精华霜
ブランド:大飯殿
エンタープライズ:大饭殿生物科技(天津)有限公司
分類:普通面霜
成分 大まかな特性 活性 风险 安心度
WATER@!@AQUA
皮肤调理,溶剂 1
甘油
GLYCERIN
皮肤防护,皮肤调理,头发调理,口腔护理,保湿,变性剂,溶剂,黏度控制 1-2
丙二醇
PROPYLENE GLYCOL
皮肤调理,保湿,溶剂,黏度控制 3
聚二甲基硅氧烷交联聚合物
DIMETHICONE CROSSPOLYMER
发用定型,增稠剂,黏度控制,乳化稳定剂 硅油 1
辛基聚甲基硅氧烷
CAPRYLYL METHICONE
皮肤调理,柔润剂 硅油 1
聚二甲基硅氧烷甲硅烷基化硅石
SILICA DIMETHICONE SILYLATE
吸附剂,增稠剂,抗结块剂,消泡剂,黏度控制 硅油 1
红木(BIXA ORELLANA)籽油
BIXA ORELLANA SEED OIL
皮肤调理,保湿,柔润剂 1
向日葵(HELIANTHUS ANNUUS)籽油
HELIANTHUS ANNUUS (SUNFLOWER) SEED OIL
皮肤调理,保湿,柔润剂
野大豆(GLYCINE SOJA)油
GLYCINE SOJA (SOYBEAN) OIL
皮肤调理,抗氧化,柔润剂 1
甘油葡糖苷
GLYCERYL GLUCOSIDE
抗衰,皮肤调理,抗氧化,保湿 1
枸杞(LYCIUM CHINENSE)果提取物
LYCIUM CHINENSE FRUIT EXTRACT
抗衰,皮肤调理,抗氧化,保湿 1
羟基乙酸
GLYCOLIC ACID
祛痘,皮肤调理,去角质,pH调节剂 1-4
水杨酸
SALICYLIC ACID
去黑头,祛痘,皮肤调理,控油,去屑,头发调理,去角质,保湿,防腐剂,不透明剂 一般防腐剂、孕妇慎用成分 1-3
扁桃酸
MANDELIC ACID
皮肤调理 1
苹果酸
MALIC ACID
抗衰,皮肤调理,抗氧化,去角质,pH调节剂 1-4
癸二酸
SEBACIC ACID
pH调节剂 1
壬二酸
AZELAIC ACID
皮肤调理,pH调节剂 1
阿魏酸
FERULIC ACID
抗衰,抗氧化 1-2
黄芩(SCUTELLARIA BAICALENSIS)根提取物
SCUTELLARIA BAICALENSIS ROOT EXTRACT
抗衰,舒敏,收敛,抗氧化,保湿 1
白柳(SALIX ALBA)树皮提取物
SALIX ALBA (WILLOW) BARK EXTRACT
祛痘,舒敏,皮肤调理,收敛,头发调理 1
榆绣线菊(SPIRAEA ULMARIA)花提取物
SPIRAEA ULMARIA FLOWER EXTRACT
祛痘,皮肤调理,控油 1
柚(CITRUS GRANDIS)果提取物
CITRUS GRANDIS (GRAPEFRUIT) FRUIT EXTRACT
皮肤调理,收敛 1-4
茶(CAMELLIA SINENSIS)叶提取物
CAMELLIA SINENSIS LEAF EXTRACT
抗衰,皮肤防护,皮肤调理,收敛,抗氧化,口腔护理,保湿,柔润剂 1-2
库拉索芦荟(ALOE BARBADENSIS)提取物
ALOE BARBADENSIS EXTRACT
抗衰,皮肤调理,抗氧化,保湿 1-3
薄荷(MENTHA HAPLOCALYX)提取物
MENTHA HAPLOCALYX EXTRACT
抗氧化,气味抑制剂 1
裂裥菌素
SCHIZOPHYLLAN
保湿 1
透明质酸钠
SODIUM HYALURONATE
抗衰,皮肤调理,保湿 1
水解透明质酸钠
HYDROLYZED SODIUM HYALURONATE
皮肤调理,头发调理,保湿 1
透明质酸
HYALURONIC ACID
修护,皮肤调理,保湿,抗静电 1
羟丙基三甲基氯化铵透明质酸
HYDROXYPROPYLTRIMONIUM HYALURONATE
皮肤调理,保湿,成膜剂 1
氯化钠
SODIUM CHLORIDE
皮肤调理,口腔护理,填充剂,增稠剂,稳定剂,黏度控制,乳化稳定剂 1
二氧化钛
TITANIUM DIOXIDE
不透明剂 1-6
对羟基苯乙酮
HYDROXYACETOPHENONE
抗氧化 1
己二醇
HEXYLENE GLYCOL
皮肤调理,保湿,清洁剂,溶剂,表面活性剂,乳化剂 1

暖かいヒント:
1、 緑はセキュリティを表します。オレンジは安全性を示す。赤色は潜在リスク成分を表す。グレー表示データなし。
2、セキュリティリスクは0~10で、数字が高いほどリスクが高くなります。主に長期使用のセキュリティを評価します。
3、ニキビリスク等級は【低-中-高】に分けられ、もし標識がなければ、この成分にニキビリスクがないことを代表する。