SAMPAR Clear Solution Mask
ブランド:欣蔓
分類:其他面膜
成分 大まかな特性 活性 风险 安心度
WATER@!@AQUA
皮肤调理,溶剂 1
高岭土
KAOLIN
吸附剂,填充剂,抗结块剂,摩擦剂,不透明剂 1
甜扁桃(PRUNUS AMYGDALUS DULCIS)油
PRUNUS AMYGDALUS DULCIS (SWEET ALMOND) OIL
皮肤调理 致痘风险等级(高) 1
鲸蜡硬脂醇
CETEARYL ALCOHOL
皮肤调理,增稠剂,柔润剂,清洁剂,表面活性剂,黏度控制,不透明剂,乳化剂,乳化稳定剂 致痘风险等级(低) 1
甘油硬脂酸酯
GLYCERYL STEARATE
皮肤调理,柔润剂,表面活性剂,乳化剂 致痘风险等级(低)
鲸蜡硬脂醇聚醚-20
CETEARETH-20
清洁剂,表面活性剂,乳化剂 致痘风险等级(低) 1-3
苯氧乙醇
PHENOXYETHANOL
防腐剂 一般防腐剂 2-4
PCA 锌
ZINC PCA
皮肤调理,保湿,控油 1-3
ARGON
抗氧化
香叶天竺葵(PELARGONIUM GRAVEOLENS)油
PELARGONIUM GRAVEOLENS OIL
抗氧化 4
丁二醇
BUTYLENE GLYCOL
皮肤调理,保湿,溶剂,黏度控制 1
柠檬酸钠
SODIUM CITRATE
螯合剂,pH调节剂 1
氯苯甘醚
CHLORPHENESIN
防腐剂,不透明剂 一般防腐剂 3
樟脑
CAMPHOR
变性剂,增塑剂,气味抑制剂,清凉剂 孕妇慎用成分 1-2
香叶醇
GERANIOL
吸附剂,香精香料 香精香料 3-5
甘油
GLYCERIN
皮肤防护,皮肤调理,头发调理,口腔护理,保湿,变性剂,溶剂,黏度控制 1-2
芳樟醇
LINALOOL
吸附剂,气味抑制剂,香精香料 香精香料 3
生育酚乙酸酯
TOCOPHERYL ACETATE
抗衰,皮肤调理,抗氧化,保湿 2-3
牛油果树(BUTYROSPERMUM PARKII)籽饼提取物
BUTYROSPERMUM PARKII (SHEA) SEEDCAKE EXTRACT
皮肤防护,皮肤调理
1,2-戊二醇
PENTYLENE GLYCOL
皮肤调理,保湿,增溶剂,溶剂 1
柠檬酸
CITRIC ACID
去黑头,去角质,保湿,螯合剂,pH调节剂 1-2
辣薄荷(MENTHA PIPERITA)提取物
MENTHA PIPERITA (PEPPERMINT) EXTRACT
舒敏,气味抑制剂,清凉剂,清洁剂 4
山梨酸钾
POTASSIUM SORBATE
防腐剂,不透明剂 一般防腐剂 2
苯甲酸钠
SODIUM BENZOATE
气味抑制剂,稳定剂,防腐剂,不透明剂 一般防腐剂 1-3

暖かいヒント:
1、 緑はセキュリティを表します。オレンジは安全性を示す。赤色は潜在リスク成分を表す。グレー表示データなし。
2、セキュリティリスクは0~10で、数字が高いほどリスクが高くなります。主に長期使用のセキュリティを評価します。
3、ニキビリスク等級は【低-中-高】に分けられ、もし標識がなければ、この成分にニキビリスクがないことを代表する。