赫蒂法晶透控油抗痘面膜
品牌:赫蒂法
企業:赫蒂法股份有限公司
分類:其他面膜
成分 概略特性 活性 風險 安心度
WATER@!@AQUA
皮膚調理,溶劑 1
甘油
GLYCERIN
皮膚防護,皮膚調理,頭髮調理,口腔護理,保濕,變性劑,溶劑,黏度控制 1-2
丁二醇
BUTYLENE GLYCOL
皮膚調理,保濕,溶劑,黏度控制 1
石竹素
OLEANOLIC ACID
皮膚調理,抗衰,保濕 1
芸香苷
RUTIN
皮膚調理,抗氧化,頭髮調理 1
大麥(HORDEUM VULGARE)提取物
HORDEUM VULGARE EXTRACT
抗衰,皮膚調理,抗氧化,柔潤劑 1
聚山梨醇酯-20
POLYSORBATE 20
清潔劑,表面活性劑,乳化劑 3
尿囊素
ALLANTOIN
修護,舒敏,皮膚防護,皮膚調理,收斂,頭髮調理,保濕 1
甘草酸二鉀
DIPOTASSIUM GLYCYRRHIZATE
祛痘,舒敏,皮膚調理,保濕 1
透明質酸鈉
SODIUM HYALURONATE
抗衰,皮膚調理,保濕 1
卡波姆
CARBOMER
膠凝劑,增稠劑,黏度控制,乳化穩定劑 1
去甲二氫愈創木酸
NORDIHYDROGUAIARETIC ACID
抗氧化 1
辛甘醇
CAPRYLYL GLYCOL
皮膚調理,頭髮調理,保濕,柔潤劑,氣味抑製劑,溶劑 1
黃原膠
XANTHAN GUM
皮膚調理,膠凝劑,增稠劑,清潔劑,粘合劑,表面活性劑,黏度控制,乳化劑,乳化穩定劑 1
視黃醇棕櫚酸酯
RETINYL PALMITATE
抗衰,祛痘,皮膚調理,抗氧化 致痘風險等級(低)、孕婦慎用成分 9
糖鞘脂類
GLYCOSPHINGOLIPIDS
皮膚調理,柔潤劑 1
PEG-60 杏仁甘油酯類
PEG-60 ALMOND GLYCERIDES
增溶劑,乳化劑,表面活性劑 含PEG的成分 3
氯苯甘醚
CHLORPHENESIN
防腐劑,不透明劑 一般防腐劑 3
EDTA 二鈉
DISODIUM EDTA
螯合劑,黏度控制 1
硫酸鋅
ZINC SULFATE
皮膚調理,收斂,口腔護理 3-4
苯氧乙醇
PHENOXYETHANOL
防腐劑 一般防腐劑 2-4
(日用)香精
FRAGRANCE
吸附劑,香精香料 香精香料

溫馨提示:
1、 綠色表示安全。橙色表示較安全。紅色表示潛在風險成分。灰色表示暫無數據。
2、安全風險從0-10,數字越高代表風險越大,主要針對長期使用之安全性進行評估。
3、致痘風險等級分為【低-中-高】,如沒有標記,則代表此成分無致痘風險。