C+KEYS濃縮HA酵母面膜
品牌:C+KEYS
分類:貼片面膜
成分 概略特性 活性 風險 安心度
WATER@!@AQUA
溶劑 1
甘油
GLYCERIN
皮膚防護,皮膚調理,頭髮調理,口腔護理,保濕,變性劑,溶劑,黏度控制 1-2
丁二醇
BUTYLENE GLYCOL
皮膚調理,保濕,溶劑,黏度控制 1
乳酸桿菌發酵產物
LACTOBACILLUS FERMENT
抗衰,祛痘,皮膚調理,保濕,頭髮調理 1
酵母菌/大米發酵產物濾液
SACCHAROMYCES/RICE FERMENT FILTRATE
皮膚調理 1
酵母提取物
YEAST EXTRACT@!@FAEX
修護,抗衰,皮膚防護,皮膚調理,保濕,抗氧化 1
龍膽(GENTIANA SCABRA)根提取物
GENTIANA SCABRA ROOT EXTRACT
皮膚調理,氣味抑製劑 1
卡波姆
CARBOMER
膠凝劑,增稠劑,黏度控制,乳化穩定劑 1
對羥基苯乙酮
HYDROXYACETOPHENONE
抗氧化 1
1,3-丙二醇
PROPANEDIOL
保濕,增稠劑,溶劑,黏度控制 2
乙二醇單苄醚
BENZYL GLYCOL
溶劑 1
水解葡糖氨基聚糖
HYDROLYZED GLYCOSAMINOGLYCANS
皮膚調理,保濕,頭髮調理,成膜劑,柔潤劑 1
透明質酸鈉
SODIUM HYALURONATE
抗衰,皮膚調理,保濕 1
透明質酸鈉交聯聚合物
SODIUM HYALURONATE CROSSPOLYMER
皮膚調理,保濕 1
乙基己基甘油
ETHYLHEXYLGLYCERIN
皮膚調理,保濕,柔潤劑,氣味抑製劑 2
水解透明質酸
HYDROLYZED HYALURONIC ACID
皮膚調理,頭髮調理,保濕,柔潤劑 1
羥丙基三甲基氯化銨透明質酸
HYDROXYPROPYLTRIMONIUM HYALURONATE
皮膚調理,保濕,成膜劑 1
透明質酸
HYALURONIC ACID
修護,皮膚調理,保濕,抗靜電 1
乙酰化透明質酸鈉
SODIUM ACETYLATED HYALURONATE
皮膚調理,保濕 1
1,2-己二醇
1,2-HEXANEDIOL
皮膚調理,保濕,溶劑 1

溫馨提示:
1、 綠色表示安全。橙色表示較安全。紅色表示潛在風險成分。灰色表示暫無數據。
2、安全風險從0-10,數字越高代表風險越大,主要針對長期使用之安全性進行評估。
3、致痘風險等級分為【低-中-高】,如沒有標記,則代表此成分無致痘風險。