DEVOTE即美早安膜
品牌:迪沃
企業:蘇州恩地生物科技有限公司
分類:其他面膜
成分 概略特性 活性 風險 安心度
WATER@!@AQUA
溶劑 1
丁二醇
BUTYLENE GLYCOL
保濕 1
甘油
GLYCERIN
保濕 1-2
玫瑰(ROSA RUGOSA)花水
ROSA RUGOSA FLOWER WATER
保濕,抗衰,抗氧化
甜菜鹼
BETAINE
保濕 1
酵母菌發酵產物
SACCHAROMYCES FERMENT
皮膚調理,保濕,抗氧化 1
對羥基苯乙酮
HYDROXYACETOPHENONE
抗氧化 1
1,2-己二醇
1,2-HEXANEDIOL
保濕 1
燕麥(AVENA SATIVA)麩皮提取物
AVENA SATIVA (OAT) BRAN EXTRACT
皮膚調理,抗氧化,頭髮調理 1
甲基葡糖醇聚醚-10
METHYL GLUCETH-10
保濕,乳化劑 1
精氨酸
ARGININE
保濕,潤膚劑,pH調節劑 1
黃原膠
XANTHAN GUM
增稠劑 1
抗壞血酸葡糖苷
ASCORBYL GLUCOSIDE
修護,抗氧化,保濕 1
水解小核菌(SCLEROTIUM ROLFSSII)膠
HYDROLYZED SCLEROTIUM GUM
增稠劑,成膜劑
銀耳(TREMELLA FUCIFORMIS)提取物
TREMELLA FUCIFORMIS (MUSHROOM) EXTRACT
皮膚調理,抗氧化,保濕 1
絲氨酸
SERINE
頭髮調理,保濕,抗靜電 1
乳酸鈉
SODIUM LACTATE
去角質,保濕,pH調節劑 1-3
甘氨酸
GLYCINE
抗衰,皮膚調理,頭髮調理,保濕,抗靜電 1
EDTA 二鈉
DISODIUM EDTA
螯合劑 1
丙氨酸
ALANINE
抗氧化,抗衰,頭髮調理,保濕,抗靜電 1
亮氨酸
LEUCINE
皮膚調理,頭髮調理,抗靜電 1
纈氨酸
VALINE
皮膚調理,頭髮調理,抗靜電 1
異亮氨酸
ISOLEUCINE
皮膚調理,頭髮調理,抗靜電,潤膚劑 1
谷氨酸
GLUTAMIC ACID
皮膚調理,頭髮調理,保濕,抗靜電 1
天冬氨酸
ASPARTIC ACID
抗衰,皮膚調理,抗氧化,頭髮調理,抗靜電 1
脯氨酸
PROLINE
皮膚調理,頭髮調理 1
β-葡聚糖
BETA-GLUCAN
修護,舒緩,保濕 1
1,2-戊二醇
PENTYLENE GLYCOL
保濕 1
稻米發酵產物濾液
RICE FERMENT FILTRATE (SAKE)
皮膚調理,抗氧化 1
氫氧化鉀
POTASSIUM HYDROXIDE
清潔劑,表面活性劑,pH調節劑 2-5
檸檬酸
CITRIC ACID
去角質,pH調節劑 1-2

溫馨提示:
1、 綠色表示安全。橙色表示較安全。紅色表示潛在風險成分。灰色表示暫無數據。
2、安全風險從0-10,數字越高代表風險越大,主要針對長期使用之安全性進行評估。
3、致痘風險等級分為【低-中-高】,如沒有標記,則代表此成分無致痘風險。