水沐妝媛玻尿酸安膚補水面膜成分表和安全分析 | 皖G妆网备字2023000302

水沐妝媛玻尿酸安膚補水面膜

品牌：水沐妝媛
企業：安徽品赫生物科技有限公司
分類：其他面膜

成分	概略特性	風險	安心度
水 WATER@!@AQUA	溶劑		1
丙二醇 PROPYLENE GLYCOL	保濕		3
甘油聚醚-26 GLYCERETH-26	保濕		1
甘油 GLYCERIN	保濕		1-2
對羥基苯乙酮 HYDROXYACETOPHENONE	抗氧化		1
尿囊素 ALLANTOIN	舒緩,保濕		1
丁二醇 BUTYLENE GLYCOL	保濕		1
卡波姆 CARBOMER	增稠劑		1
黃原膠 XANTHAN GUM	增稠劑		1
三乙醇胺 TRIETHANOLAMINE	pH調節劑	致痘風險等級（低）	6
辛酰羥肟酸 CAPRYLHYDROXAMIC ACID	螯合劑		1
1,3-丙二醇 PROPANEDIOL	保濕		2
透明質酸鈉 SODIUM HYALURONATE	修護,抗衰,舒緩,保濕		1
積雪草(CENTELLA ASIATICA)提取物 CENTELLA ASIATICA EXTRACT	抗皺,修護,舒緩,抗氧化,保濕		1
甘油辛酸酯 GLYCERYL CAPRYLATE	潤膚劑		1
乙二醇單苄醚 BENZYL GLYCOL	溶劑		1
虎杖(POLYGONUM CUSPIDATUM)根提取物 POLYGONUM CUSPIDATUM ROOT EXTRACT	抗衰,抗氧化		1
黃芩(SCUTELLARIA BAICALENSIS)根提取物 SCUTELLARIA BAICALENSIS ROOT EXTRACT	抗衰,舒緩,抗氧化		1
水解葡糖氨基聚糖 HYDROLYZED GLYCOSAMINOGLYCANS	皮膚調理,保濕,頭髮調理,成膜劑,潤膚劑		1
透明質酸鈉交聯聚合物 SODIUM HYALURONATE CROSSPOLYMER	保濕		1
茶(CAMELLIA SINENSIS)葉提取物 CAMELLIA SINENSIS LEAF EXTRACT	抗衰,收斂,抗氧化,口腔護理,保濕		2-4
光果甘草(GLYCYRRHIZA GLABRA)根提取物 GLYCYRRHIZA GLABRA (LICORICE) ROOT EXTRACT	抗氧化,舒緩		5
母菊(CHAMOMILLA RECUTITA)花提取物 CHAMOMILLA RECUTITA (MATRICARIA) FLOWER EXTRACT	抗衰,舒緩,抗氧化		2
迷迭香(ROSMARINUS OFFICINALIS)葉提取物 ROSMARINUS OFFICINALIS (ROSEMARY) LEAF EXTRACT	抗衰,收斂,抗氧化		1
1,2-己二醇 1,2-HEXANEDIOL	保濕		1
水解透明質酸 HYDROLYZED HYALURONIC ACID	保濕,潤膚劑		1
乙基己基甘油 ETHYLHEXYLGLYCERIN	皮膚調理,保濕		2
羥丙基三甲基氯化銨透明質酸 HYDROXYPROPYLTRIMONIUM HYALURONATE	皮膚調理,保濕,成膜劑		1
透明質酸 HYALURONIC ACID	抗衰,修護,保濕		1
乙酰化透明質酸鈉 SODIUM ACETYLATED HYALURONATE	修護,保濕		1

溫馨提示：
1、綠色表示安全。橙色表示較安全。紅色表示潛在風險成分。灰色表示暫無數據。
2、安全風險從0-10,數字越高代表風險越大，主要針對長期使用之安全性進行評估。
3、致痘風險等級分為【低-中-高】，如沒有標記，則代表此成分無致痘風險。