潤根源祛痘修護原液
品牌:潤根源
企業:廣州葯妝日用化工有限公司
分類:基底液/美容液/原液
企業:廣州葯妝日用化工有限公司
分類:基底液/美容液/原液
成分 | 概略特性 | 活性 | 風險 | 安心度 |
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水
WATER@!@AQUA
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溶劑 | 1 | ||
庫拉索蘆薈(ALOE BARBADENSIS)葉汁
ALOE BARBADENSIS LEAF JUICE
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抗衰,皮膚調理,抗氧化,保濕 | 1-3 | ||
歐蒲公英(TARAXACUM OFFICINALE)根
TARAXACUM OFFICINALE (DANDELION) ROOT
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1 | |||
聚山梨醇酯-65
POLYSORBATE 65
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乳化劑 | 1-3 | ||
聚季銨鹽-68
POLYQUATERNIUM-68
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發用定型,成膜劑,抗靜電 | 1 | ||
丁二醇
BUTYLENE GLYCOL
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保濕 | 1 | ||
辛甘醇
CAPRYLYL GLYCOL
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保濕,溶劑 | 1 | ||
乳酸
LACTIC ACID
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祛痘,去角質,保濕,pH調節劑 | 1-4 | ||
1,2-己二醇
1,2-HEXANEDIOL
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保濕 | 1 | ||
PCA 鈉
SODIUM PCA
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保濕,抗靜電 | 1 | ||
生育酚(維生素E)
TOCOPHEROL
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緊緻,抗皺,抗氧化 | 致痘風險等級(低) | 1-2 | |
透明質酸鈉
SODIUM HYALURONATE
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修護,舒緩,抗衰,保濕 | 1 | ||
甘油
GLYCERIN
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保濕 | 1-2 | ||
燕麥(AVENA SATIVA)仁提取物
AVENA SATIVA (OAT) KERNEL EXTRACT
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皮膚調理,抗氧化,摩擦劑,潤膚劑 | 1 | ||
丙二醇
PROPYLENE GLYCOL
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保濕 | 3 | ||
羥乙基脲
HYDROXYETHYL UREA
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皮膚調理,頭髮調理,保濕 | 1 | ||
卡波姆
CARBOMER
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增稠劑 | 1 | ||
雙(羥甲基)咪唑烷基脲
DIAZOLIDINYL UREA
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防腐劑,不透明劑 | 一般防腐劑、甲醛釋放體防腐劑 | 5 | |
碘丙炔醇丁基氨甲酸酯
IODOPROPYNYL BUTYLCARBAMATE
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防腐劑 | 一般防腐劑 | 5-6 | |
三乙醇胺
TRIETHANOLAMINE
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pH調節劑 | 致痘風險等級(低) | 6 | |
黃原膠
XANTHAN GUM
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增稠劑 | 1 | ||
尿囊素
ALLANTOIN
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舒緩,保濕 | 1 | ||
甲基異噻唑啉酮
METHYLISOTHIAZOLINONE
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防腐劑,不透明劑 | 一般防腐劑、MIT/CMIT防腐劑 | 7 |
溫馨提示:
1、 綠色表示安全。橙色表示較安全。紅色表示潛在風險成分。灰色表示暫無數據。
2、安全風險從0-10,數字越高代表風險越大,主要針對長期使用之安全性進行評估。
3、致痘風險等級分為【低-中-高】,如沒有標記,則代表此成分無致痘風險。