CMM純臻水光親膚面膜
品牌:CMM
企業:上海鄭明明化妝品有限公司
分類:其他面膜
成分 概略特性 活性 風險 安心度
WATER@!@AQUA
皮膚調理,溶劑 1
甘油
GLYCERIN
皮膚防護,皮膚調理,頭髮調理,口腔護理,保濕,變性劑,溶劑,黏度控制 1-2
藻提取物
ALGAE EXTRACT
皮膚調理,口腔護理,保濕,柔潤劑 1
透明質酸鈉
SODIUM HYALURONATE
抗衰,皮膚調理,保濕 1
羥癸基泛醌
HYDROXYDECYL UBIQUINONE
皮膚調理,抗氧化 1
透明質酸
HYALURONIC ACID
修護,皮膚調理,保濕,抗靜電 1
水解酵母蛋白
HYDROLYZED YEAST PROTEIN
皮膚調理,抗氧化,頭髮調理,抗靜電 1
歐洲七葉樹(AESCULUS HIPPOCASTANUM)籽提取物
AESCULUS HIPPOCASTANUM (HORSE CHESTNUT) SEED EXTRACT
抗衰,皮膚調理 1
金盞花(CALENDULA OFFICINALIS)花提取物
CALENDULA OFFICINALIS FLOWER EXTRACT
皮膚調理,抗氧化 1
泛醇
PANTHENOL@!@UBIQUINOL
指甲護理,皮膚防護,皮膚調理,抗氧化,頭髮調理,保濕,抗靜電,柔潤劑 1
積雪草(CENTELLA ASIATICA)提取物
CENTELLA ASIATICA EXTRACT
修護,舒敏,皮膚調理,抗氧化,保濕,清潔劑 1
甘草酸銨
AMMONIUM GLYCYRRHIZATE
抗衰,皮膚調理,抗氧化 1
丙二醇
PROPYLENE GLYCOL
皮膚調理,保濕,溶劑,黏度控制 3
假葉樹(RUSCUS ACULEATUS)根提取物
RUSCUS ACULEATUS ROOT EXTRACT
舒敏,皮膚調理,收斂,清涼劑 1
尿囊素
ALLANTOIN
修護,舒敏,皮膚防護,皮膚調理,收斂,頭髮調理,保濕 1
辛甘醇
CAPRYLYL GLYCOL
皮膚調理,頭髮調理,保濕,柔潤劑,氣味抑製劑,溶劑 1
1,2-己二醇
1,2-HEXANEDIOL
皮膚調理,保濕,溶劑 1
氯化鈉
SODIUM CHLORIDE
皮膚調理,口腔護理,填充劑,增稠劑,穩定劑,黏度控制,乳化穩定劑 1
尿素
UREA
皮膚調理,保濕,抗靜電,皮膚滲透劑 1-3
乳酸
LACTIC ACID
祛痘,皮膚調理,保濕,pH調節劑 1-4
PCA 鈉
SODIUM PCA
皮膚調理,控油,頭髮調理,保濕,抗靜電 1
卡波姆
CARBOMER
膠凝劑,增稠劑,黏度控制,乳化穩定劑 1
三乙醇胺
TRIETHANOLAMINE
清潔劑,表面活性劑,pH調節劑,乳化劑 致痘風險等級(低) 5
碘丙炔醇丁基氨甲酸酯
IODOPROPYNYL BUTYLCARBAMATE
防腐劑,不透明劑 一般防腐劑 4-5
雙(羥甲基)咪唑烷基脲
DIAZOLIDINYL UREA
防腐劑,不透明劑 一般防腐劑、甲醛釋放體防腐劑 5
EDTA 二鈉
DISODIUM EDTA
螯合劑,黏度控制 1

溫馨提示:
1、 綠色表示安全。橙色表示較安全。紅色表示潛在風險成分。灰色表示暫無數據。
2、安全風險從0-10,數字越高代表風險越大,主要針對長期使用之安全性進行評估。
3、致痘風險等級分為【低-中-高】,如沒有標記,則代表此成分無致痘風險。