漢苑良方舒緩滋養隱形面膜
品牌:漢苑良方
企業:河南漢方葯業有限責任公司
分類:其他面膜
成分 概略特性 活性 風險 安心度
WATER@!@AQUA
皮膚調理,溶劑 1
丙二醇
PROPYLENE GLYCOL
皮膚調理,保濕,溶劑,黏度控制 3
光果甘草(GLYCYRRHIZA GLABRA)根提取物
GLYCYRRHIZA GLABRA (LICORICE) ROOT EXTRACT
舒敏,皮膚調理,保濕,柔潤劑 5
丁二醇
BUTYLENE GLYCOL
皮膚調理,保濕,溶劑,黏度控制 1
對羥基苯乙酮
HYDROXYACETOPHENONE
抗氧化 1
己二醇
HEXYLENE GLYCOL
皮膚調理,保濕,清潔劑,溶劑,表面活性劑,乳化劑 1
燕麥(AVENA SATIVA)提取物
AVENA SATIVA (OAT) EXTRACT
皮膚調理,抗氧化,抗衰
細莖石斛(DENDROBIUM CANDIDUM)提取物
DENDROBIUM CANDIDUM EXTRACT
抗衰,皮膚調理,抗氧化,柔潤劑
膜莢黃芪(ASTRAGALUS MEMBRANACEUS)根提取物
ASTRAGALUS MEMBRANACEUS ROOT EXTRACT
皮膚調理,抗氧化,柔潤劑 1
羥乙基纖維素
HYDROXYETHYLCELLULOSE
頭髮調理,增稠劑,成膜劑,粘合劑,黏度控制,乳化穩定劑 1
PEG-40 氫化蓖麻油
PEG-40 HYDROGENATED CASTOR OIL
清潔劑,表面活性劑,乳化劑 含PEG的成分 1-3
玫瑰(ROSA RUGOSA)花油
ROSA RUGOSA FLOWER OIL
氣味抑製劑 3
三乙醇胺
TRIETHANOLAMINE
清潔劑,表面活性劑,pH調節劑,乳化劑 致痘風險等級(低) 5
透明質酸鈉
SODIUM HYALURONATE
抗衰,皮膚調理,保濕 1
甘草酸二鉀
DIPOTASSIUM GLYCYRRHIZATE
祛痘,舒敏,皮膚調理,保濕 1
辛酰羥肟酸
CAPRYLHYDROXAMIC ACID
螯合劑 1

溫馨提示:
1、 綠色表示安全。橙色表示較安全。紅色表示潛在風險成分。灰色表示暫無數據。
2、安全風險從0-10,數字越高代表風險越大,主要針對長期使用之安全性進行評估。
3、致痘風險等級分為【低-中-高】,如沒有標記,則代表此成分無致痘風險。