御方凈顏堂光果甘草一號精華液
品牌:御方
企業:廣州韓尚化妝品有限公司
分類:精華液
成分 概略特性 活性 風險 安心度
WATER@!@AQUA
皮膚調理,溶劑 1
甘油
GLYCERIN
皮膚防護,皮膚調理,頭髮調理,口腔護理,保濕,變性劑,溶劑,黏度控制 1-2
丁二醇
BUTYLENE GLYCOL
皮膚調理,保濕,溶劑,黏度控制 1
母菊(CHAMOMILLA RECUTITA)花提取物
CHAMOMILLA RECUTITA (MATRICARIA) FLOWER EXTRACT
抗衰,舒敏,皮膚調理,抗氧化 2
積雪草(CENTELLA ASIATICA)提取物
CENTELLA ASIATICA EXTRACT
修護,舒敏,皮膚調理,抗氧化,保濕,清潔劑 1
庫拉索蘆薈(ALOE BARBADENSIS)葉提取物
ALOE BARBADENSIS LEAF EXTRACT
皮膚調理,抗氧化,口腔護理,保濕,柔潤劑 1-3
糖蛋白
GLYCOPROTEINS
皮膚調理,保濕,頭髮調理 1
凝血酸
TRANEXAMIC ACID
皮膚調理,保濕,收斂 1
α-熊果苷
ALPHA-ARBUTIN
皮膚調理,抗氧化 1
光果甘草(GLYCYRRHIZA GLABRA)葉提取物
GLYCYRRHIZA GLABRA (LICORICE) LEAF EXTRACT
皮膚調理 4
尿囊素
ALLANTOIN
修護,舒敏,皮膚防護,皮膚調理,收斂,頭髮調理,保濕 1
肌肽
CARNOSINE
抗糖化,抗衰,舒敏,皮膚調理,抗氧化,保濕 1
氯苯甘醚
CHLORPHENESIN
防腐劑,不透明劑 一般防腐劑 3
精氨酸
ARGININE
皮膚調理,頭髮調理,保濕,抗靜電,pH調節劑 1
EDTA 二鈉
DISODIUM EDTA
螯合劑,黏度控制 1

溫馨提示:
1、 綠色表示安全。橙色表示較安全。紅色表示潛在風險成分。灰色表示暫無數據。
2、安全風險從0-10,數字越高代表風險越大,主要針對長期使用之安全性進行評估。
3、致痘風險等級分為【低-中-高】,如沒有標記,則代表此成分無致痘風險。