日光之美高原曬后修護面膜
企業：西藏坎巴嘎布衛生用品有限公司
分類：曬后修復
分類：曬后修復
| 成分 | 概略特性 | 活性 | 風險 | 安心度 |
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酵母菌/大米發酵產物濾液
SACCHAROMYCES/RICE FERMENT FILTRATE
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皮膚調理 |
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1 | |
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銀耳(TREMELLA FUCIFORMIS)提取物
TREMELLA FUCIFORMIS (MUSHROOM) EXTRACT
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皮膚調理,抗氧化,保濕 |
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1 | |
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小麥(TRITICUM VULGARE)胚芽提取物
TRITICUM VULGARE (WHEAT) GERM EXTRACT
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皮膚防護,皮膚調理,抗氧化 |
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1 | |
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燕麥(AVENA SATIVA)提取物
AVENA SATIVA (OAT) EXTRACT
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皮膚調理,抗氧化,抗衰 |
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大籽蒿(ARTEMISIA SIEVERSIANA)提取物
ARTEMISIA SIEVERSIANA EXTRACT
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木糖醇
XYLITOL
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皮膚調理,保濕 | 1 | ||
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葡萄糖
GLUCOSE
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皮膚調理,保濕 |
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1 | |
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透明質酸鈉
SODIUM HYALURONATE
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抗衰,皮膚調理,保濕 |
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1 |
溫馨提示：
1、 綠色表示安全。橙色表示較安全。紅色表示潛在風險成分。灰色表示暫無數據。
2、安全風險從0-10,數字越高代表風險越大，主要針對長期使用之安全性進行評估。
3、致痘風險等級分為【低-中-高】，如沒有標記，則代表此成分無致痘風險。