植然方適石斛修護煥亮凍乾麵膜
品牌:植然方適
企業:植然方適(杭州)健康科技有限公司
分類:其他面膜
成分 概略特性 活性 風險 安心度
甘油
GLYCERIN
皮膚防護,皮膚調理,頭髮調理,口腔護理,保濕,變性劑,溶劑,黏度控制 1-2
丁二醇
BUTYLENE GLYCOL
皮膚調理,保濕,溶劑,黏度控制 1
山茶(CAMELLIA JAPONICA)花提取物
CAMELLIA JAPONICA FLOWER EXTRACT
抗衰,皮膚調理,抗氧化,柔潤劑 1
雪蓮花(SAUSSUREA INVOLUCRATA)提取物
SAUSSUREA INVOLUCRATA EXTRACT
保濕 1
雙丙甘醇
DIPROPYLENE GLYCOL
保濕,溶劑,黏度控制 1-2
母菊(CHAMOMILLA RECUTITA)花提取物
CHAMOMILLA RECUTITA (MATRICARIA) FLOWER EXTRACT
抗衰,舒敏,皮膚調理,抗氧化 2
WATER@!@AQUA
皮膚調理,溶劑 1
銀耳(TREMELLA FUCIFORMIS)子實體提取物
TREMELLA FUCIFORMIS SPOROCARP EXTRACT
皮膚調理,抗氧化,頭髮調理,保濕 1
透明質酸鈉
SODIUM HYALURONATE
抗衰,皮膚調理,保濕 1
細莖石斛(DENDROBIUM CANDIDUM)莖提取物
DENDROBIUM CANDIDUM STEM EXTRACT
皮膚調理,保濕
人蔘(PANAX GINSENG)根提取物
PANAX GINSENG ROOT EXTRACT
抗衰,皮膚防護,皮膚調理,抗氧化,頭髮調理,柔潤劑 1
水解透明質酸鈉
HYDROLYZED SODIUM HYALURONATE
皮膚調理,頭髮調理,保濕 1
富勒烯
FULLERENES
抗衰,皮膚調理,抗氧化
聚乙烯吡咯烷酮
PVP
發用定型,增稠劑,成膜劑,抗靜電,粘合劑,黏度控制,乳化穩定劑 1
白及(BLETILLA STRIATA)根提取物
BLETILLA STRIATA ROOT EXTRACT
皮膚調理,去黑頭,抗衰 1
茯苓(PORIA COCOS)提取物
PORIA COCOS EXTRACT
皮膚調理,收斂 1
芍藥(PAEONIA ALBIFLORA)根提取物
PAEONIA ALBIFLORA ROOT EXTRACT
抗衰,皮膚調理,抗氧化 1
白蘞(AMPELOPSIS JAPONICA)根提取物
AMPELOPSIS JAPONICA ROOT EXTRACT
皮膚調理
白朮(ATRACTYLODES MACROCEPHALA)根提取物
ATRACTYLODES MACROCEPHALA ROOT EXTRACT
皮膚調理 1
銀耳(TREMELLA FUCIFORMIS)提取物
TREMELLA FUCIFORMIS (MUSHROOM) EXTRACT
皮膚調理,抗氧化,保濕 1
肌肽
CARNOSINE
抗糖化,抗衰,舒敏,皮膚調理,抗氧化,保濕 1
辛甘醇
CAPRYLYL GLYCOL
皮膚調理,頭髮調理,保濕,柔潤劑,氣味抑製劑,溶劑 1
乙酰基六肽-1
ACETYL HEXAPEPTIDE-1
抗衰,皮膚調理,抗氧化 1
二裂酵母發酵產物濾液
BIFIDA FERMENT FILTRATE
皮膚調理,抗氧化 1
1,2-己二醇
1,2-HEXANEDIOL
皮膚調理,保濕,溶劑 1
乙基己基甘油
ETHYLHEXYLGLYCERIN
皮膚調理,保濕,柔潤劑,氣味抑製劑 2
對羥基苯乙酮
HYDROXYACETOPHENONE
抗氧化 1
四氫甲基嘧啶羧酸
ECTOIN
修護,抗衰,舒敏,皮膚調理,抗氧化,保濕 1

溫馨提示:
1、 綠色表示安全。橙色表示較安全。紅色表示潛在風險成分。灰色表示暫無數據。
2、安全風險從0-10,數字越高代表風險越大,主要針對長期使用之安全性進行評估。
3、致痘風險等級分為【低-中-高】,如沒有標記,則代表此成分無致痘風險。