Hada Labo Tokyo Protecting Day Lotion, SPF 30 (2017 formulation)
品牌:肌研
成分 概略特性 活性 風險 安心度
視黃醇棕櫚酸酯
RETINYL PALMITATE
抗衰,祛痘,抗氧化 致痘風險等級(低)、孕婦慎用成分 9
二苯酮-3
BENZOPHENONE-3
化學防晒,光穩定劑 、化學防晒劑、孕婦慎用成分 4
甲基異噻唑啉酮
METHYLISOTHIAZOLINONE
防腐劑,不透明劑 一般防腐劑、MIT/CMIT防腐劑 7
PEG-20 失水山梨醇異硬脂酸酯
PEG-20 SORBITAN ISOSTEARATE
清潔劑,表面活性劑,乳化劑 含PEG的成分 2-4
胡莫柳酯
HOMOSALATE
化學防晒,光穩定劑 化學防晒劑 2-4
水楊酸辛酯
OCTYL SALICYLATE
化學防晒,光穩定劑 、化學防晒劑 1-3
苯氧乙醇
PHENOXYETHANOL
防腐劑 一般防腐劑 2-4
PEG-8 聚二甲基硅氧烷
PEG-8 DIMETHICONE
頭髮調理,潤膚劑,乳化劑 硅油、含PEG的成分 3
奧克立林
OCTOCRYLENE
化學防晒,光穩定劑 化學防晒劑 1-2
甘油
GLYCERIN
保濕 1-2
丁基甲氧基二苯甲酰基甲烷
BUTYL METHOXYDIBENZOYLMETHANE
化學防晒,光穩定劑 化學防晒劑 1-2
碳酸二辛酯
DICAPRYLYL CARBONATE
皮膚調理,潤膚劑 1
乙酰化透明質酸鈉
SODIUM ACETYLATED HYALURONATE
保濕 1
四己基癸醇抗壞血酸酯
TETRAHEXYLDECYL ASCORBATE
抗衰,皮膚調理,抗氧化 1
PPG-10 甲基葡糖醚
PPG-10 METHYL GLUCOSE ETHER
皮膚調理,頭髮調理,潤膚劑 1
巴西基酸乙二醇環酯
ETHYLENE BRASSYLATE
吸附劑,氣味抑製劑,香精香料 香精香料 1
十一烯酸甲酯
METHYL UNDECYLENATE
氣味抑製劑 1
卡波姆
CARBOMER
增稠劑 1
甘油硬脂酸酯 SE
GLYCERYL STEARATE SE
乳化劑 致痘風險等級(中) 1
透明質酸
HYALURONIC ACID
修護,保濕 1
丁二醇
BUTYLENE GLYCOL
保濕 1
雙丙甘醇
DIPROPYLENE GLYCOL
保濕 1-2
辛基十二醇
OCTYLDODECANOL
皮膚調理,頭髮調理,潤膚劑,溶劑,乳化劑 致痘風險等級(中) 1
硬脂醇
STEARYL ALCOHOL
皮膚調理,增稠劑,潤膚劑,清潔劑,表面活性劑,賦脂劑,黏度控制,不透明劑,乳化劑,乳化穩定劑 1
三山嵛精
TRIBEHENIN
皮膚調理,潤膚劑 1
辛基十二醇新戊酸酯
OCTYLDODECYL NEOPENTANOATE
皮膚調理,潤膚劑 1
WATER@!@AQUA
溶劑 1

溫馨提示:
1、 綠色表示安全。橙色表示較安全。紅色表示潛在風險成分。灰色表示暫無數據。
2、安全風險從0-10,數字越高代表風險越大,主要針對長期使用之安全性進行評估。
3、致痘風險等級分為【低-中-高】,如沒有標記,則代表此成分無致痘風險。