赫敏娜舒緩面膜
品牌:赫敏娜
分類:其他面膜
成分 概略特性 活性 風險 安心度
WATER@!@AQUA
溶劑 1
丁二醇
BUTYLENE GLYCOL
皮膚調理,保濕,溶劑,黏度控制 1
甘油
GLYCERIN
皮膚防護,皮膚調理,頭髮調理,口腔護理,保濕,變性劑,溶劑,黏度控制 1-2
水解玉米澱粉
HYDROLYZED CORN STARCH
皮膚調理,保濕,粘合劑,黏度控制 1
酵母菌發酵產物濾液
SACCHAROMYCES FERMENT FILTRATE
抗衰,皮膚調理,保濕,抗氧化 1
丙二醇
PROPYLENE GLYCOL
皮膚調理,保濕,溶劑,黏度控制 3
泛醇
PANTHENOL@!@UBIQUINOL
指甲護理,皮膚防護,皮膚調理,抗氧化,頭髮調理,保濕,抗靜電,柔潤劑 1
對羥基苯乙酮
HYDROXYACETOPHENONE
抗氧化 1
卡波姆
CARBOMER
膠凝劑,增稠劑,黏度控制,乳化穩定劑 1
水解小核菌(SCLEROTIUM ROLFSSII)膠
HYDROLYZED SCLEROTIUM GUM
抗衰,皮膚防護,皮膚調理,保濕,成膜劑
精氨酸
ARGININE
皮膚調理,頭髮調理,保濕,抗靜電,pH調節劑 1
羧丁基脫乙酰殼多糖
CARBOXYBUTYL CHITOSAN
皮膚調理,頭髮調理,成膜劑,黏度控制
銀耳(TREMELLA FUCIFORMIS)多糖
TREMELLA FUCIFORMIS POLYSACCHARIDE
皮膚調理,成膜劑,乳化穩定劑
辛酰羥肟酸
CAPRYLHYDROXAMIC ACID
螯合劑 1
甘油辛酸酯
GLYCERYL CAPRYLATE
皮膚調理,柔潤劑,表面活性劑,乳化劑 1
龍膽(GENTIANA SCABRA)根提取物
GENTIANA SCABRA ROOT EXTRACT
皮膚調理,氣味抑製劑 1
積雪草(CENTELLA ASIATICA)提取物
CENTELLA ASIATICA EXTRACT
修護,舒敏,皮膚調理,抗氧化,保濕,清潔劑 1
艾(ARTEMISIA ARGYI)葉提取物
ARTEMISIA ARGYI LEAF EXTRACT
舒敏,皮膚調理,抗氧化,頭髮調理
脹果甘草(GLYCYRRHIZA INFLATA)根提取物
GLYCYRRHIZA INFLATA ROOT EXTRACT
皮膚調理 1
梔子(GARDENIA FLORIDA)提取物
GARDENIA FLORIDA EXTRACT
皮膚調理 1
牡丹(PAEONIA SUFFRUTICOSA)根皮提取物
PAEONIA SUFFRUTICOSA ROOT BARK EXTRACT
收斂,抗氧化
磷酸二氫鈉
SODIUM PHOSPHATE
pH調節劑 1
磷酸氫二鈉
DISODIUM PHOSPHATE
pH調節劑 1
纖連蛋白
FIBRONECTIN
抗衰,皮膚調理

溫馨提示:
1、 綠色表示安全。橙色表示較安全。紅色表示潛在風險成分。灰色表示暫無數據。
2、安全風險從0-10,數字越高代表風險越大,主要針對長期使用之安全性進行評估。
3、致痘風險等級分為【低-中-高】,如沒有標記,則代表此成分無致痘風險。