暨芙萱羽水光安肌修護面膜
品牌:暨芙萱羽
企業:濟南炫姿生物科技有限公司
分類:其他面膜
成分 概略特性 活性 風險 安心度
WATER@!@AQUA
溶劑 1
甘油
GLYCERIN
保濕 1-2
丙二醇
PROPYLENE GLYCOL
保濕 3
甘油葡糖苷
GLYCERYL GLUCOSIDE
抗氧化,保濕 1
1,2-戊二醇
PENTYLENE GLYCOL
保濕 1
辛酰羥肟酸
CAPRYLHYDROXAMIC ACID
螯合劑 1
甘油辛酸酯
GLYCERYL CAPRYLATE
柔潤劑 1
燕麥(AVENA SATIVA)β-葡聚糖
OAT BETA GLUCAN
抗衰,抗氧化 1
苯氧乙醇
PHENOXYETHANOL
防腐劑 一般防腐劑 2-4
乙基己基甘油
ETHYLHEXYLGLYCERIN
保濕 2
霍霍巴蠟 PEG-120 酯類
JOJOBA WAX PEG-120 ESTERS
柔潤劑,清潔劑,表面活性劑,乳化劑 含PEG的成分 3
對羥基苯乙酮
HYDROXYACETOPHENONE
抗氧化 1
尿囊素
ALLANTOIN
保濕 1
光果甘草(GLYCYRRHIZA GLABRA)根提取物
GLYCYRRHIZA GLABRA (LICORICE) ROOT EXTRACT
舒敏,皮膚調理,保濕,柔潤劑 5
茶(CAMELLIA SINENSIS)葉提取物
CAMELLIA SINENSIS LEAF EXTRACT
抗衰,皮膚防護,皮膚調理,收斂,抗氧化,口腔護理,保濕,柔潤劑 1-2
黃芩(SCUTELLARIA BAICALENSIS)根提取物
SCUTELLARIA BAICALENSIS ROOT EXTRACT
抗衰,舒敏,收斂,抗氧化,保濕 1
虎杖(POLYGONUM CUSPIDATUM)根提取物
POLYGONUM CUSPIDATUM ROOT EXTRACT
抗衰,皮膚調理,抗氧化 1
積雪草(CENTELLA ASIATICA)提取物
CENTELLA ASIATICA EXTRACT
修護,舒敏,皮膚調理,抗氧化,保濕 1
丁二醇
BUTYLENE GLYCOL
保濕 1
母菊(CHAMOMILLA RECUTITA)花提取物
CHAMOMILLA RECUTITA (MATRICARIA) FLOWER EXTRACT
抗衰,舒敏,皮膚調理,抗氧化 2
迷迭香(ROSMARINUS OFFICINALIS)葉提取物
ROSMARINUS OFFICINALIS (ROSEMARY) LEAF EXTRACT
抗衰,皮膚調理,收斂,抗氧化 1
纖連蛋白
FIBRONECTIN
抗衰,皮膚調理
1,2-己二醇
1,2-HEXANEDIOL
保濕 1
氯化鈉
SODIUM CHLORIDE
皮膚調理,口腔護理,乳化穩定劑 1
檸檬酸鈉
SODIUM CITRATE
螯合劑,pH調節劑 1
乙酰基六肽-8
ACETYL HEXAPEPTIDE-8
抗衰,皮膚調理,抗氧化,保濕 1
山梨酸鉀
POTASSIUM SORBATE
防腐劑 一般防腐劑 2
鹵蟲(ARTEMIA)提取物
ARTEMIA EXTRACT
舒敏,皮膚調理,保濕 1
葡萄糖
GLUCOSE
皮膚調理,保濕 1
透明質酸鈉
SODIUM HYALURONATE
保濕 1
三乙醇胺
TRIETHANOLAMINE
pH調節劑 致痘風險等級(低) 5
丙烯酸(酯)類/C10-30 烷醇丙烯酸酯交聯聚合物
ACRYLATES/C10-30 ALKYL ACRYLATE CROSSPOLYMER
增稠劑 1
卡波姆
CARBOMER
增稠劑 1
黃原膠
XANTHAN GUM
增稠劑 1
寡肽-1
OLIGOPEPTIDE-1
抗衰,皮膚調理,抗氧化,保濕 1

溫馨提示:
1、 綠色表示安全。橙色表示較安全。紅色表示潛在風險成分。灰色表示暫無數據。
2、安全風險從0-10,數字越高代表風險越大,主要針對長期使用之安全性進行評估。
3、致痘風險等級分為【低-中-高】,如沒有標記,則代表此成分無致痘風險。