PHOTOSHOP遮瑕液
品牌:PHOTOSHOP
企業:北京聯拓創想科技發展有限公司
分類:遮瑕液
成分 概略特性 活性 風險 安心度
WATER@!@AQUA
溶劑 1
二氧化鈦
TITANIUM DIOXIDE
不透明劑 1-6
丁二醇
BUTYLENE GLYCOL
皮膚調理,保濕,溶劑,黏度控制 1
甘油
GLYCERIN
皮膚防護,皮膚調理,頭髮調理,口腔護理,保濕,變性劑,溶劑,黏度控制 1-2
環五聚二甲基硅氧烷
CYCLOPENTASILOXANE
皮膚調理,頭髮調理,增稠劑,柔潤劑,溶劑 硅油 3
異十六烷
ISOHEXADECANE
皮膚調理,柔潤劑,溶劑 1
鯨蠟基 PEG/PPG-10/1 聚二甲基硅氧烷
CETYL PEG/PPG-10/1 DIMETHICONE
皮膚調理,清潔劑,表面活性劑,乳化劑 硅油、含PEG的成分 3
鯨蠟醇乙酸酯
CETYL ACETATE
皮膚調理,柔潤劑,乳化穩定劑 致痘風險等級(高) 1
滑石粉
TALC
皮膚防護,吸附劑,填充劑,抗結塊劑,摩擦劑,膚感調節劑,不透明劑 5-8
硅石
SILICA
去角質,吸附劑,填充劑,抗結塊劑,摩擦劑,膚感調節劑,黏度控制,不透明劑
聚甘油-3 二硬脂酸酯
POLYGLYCERYL-3 DISTEARATE
柔潤劑,表面活性劑,乳化劑 1
牛油果樹(BUTYROSPERMUM PARKII)果脂
BUTYROSPERMUM PARKII (SHEA) BUTTER
抗衰,保濕,皮膚調理,柔潤劑 1
葡萄(VITIS VINIFERA)籽油
VITIS VINIFERA (GRAPE) SEED OIL
抗衰,皮膚調理,收斂,抗氧化,柔潤劑 致痘風險等級(中) 1
硬脂酸鎂
MAGNESIUM STEARATE
保濕,填充劑,抗結塊劑,膚感調節劑 1
神經酰胺 NP
Ceramide NP
抗衰,舒敏,皮膚調理,抗氧化,頭髮調理,保濕 1
透明質酸鈉
SODIUM HYALURONATE
抗衰,皮膚調理,保濕 1
硫酸鎂
MAGNESIUM SULFATE
填充劑,黏度控制 1
羥苯甲酯
METHYLPARABEN
防腐劑,不透明劑 、一般防腐劑、尼泊金酯類防腐劑 3-4
羥苯丙酯
PROPYLPARABEN
防腐劑,不透明劑 、一般防腐劑、尼泊金酯類防腐劑 9
苯氧乙醇
PHENOXYETHANOL
防腐劑 一般防腐劑 2-4
香精
PARFUM@!@AROMA
吸附劑,香精香料 香精香料
CI 77491
CI 77491
著色劑 色素
CI 77492
CI 77492
著色劑 色素
CI 77499
CI 77499
著色劑 色素

溫馨提示:
1、 綠色表示安全。橙色表示較安全。紅色表示潛在風險成分。灰色表示暫無數據。
2、安全風險從0-10,數字越高代表風險越大,主要針對長期使用之安全性進行評估。
3、致痘風險等級分為【低-中-高】,如沒有標記,則代表此成分無致痘風險。