靜空間谷胱甘肽精華液
品牌:靜空間
企業:廣州天翊化妝品有限公司
分類:精華液
成分 概略特性 活性 風險 安心度
WATER@!@AQUA
皮膚調理,溶劑 1
1,3-丙二醇
PROPANEDIOL
保濕,增稠劑,溶劑,黏度控制 2
煙酰胺
NIACINAMIDE
抗糖化,抗衰,皮膚調理,抗氧化,頭髮調理,去角質,保濕 1
1,2-戊二醇
PENTYLENE GLYCOL
皮膚調理,保濕,增溶劑,溶劑 1
甜菜鹼
BETAINE
皮膚調理,頭髮調理,保濕,抗靜電,表面活性劑,黏度控制 1
凝血酸
TRANEXAMIC ACID
皮膚調理,保濕,收斂 1
苯氧乙醇
PHENOXYETHANOL
防腐劑 一般防腐劑 2-4
覆膜酵母菌發酵產物濾液
SACCHAROMYCOPSIS FERMENT FILTRATE
皮膚調理,保濕,抗氧化
辛甘醇
CAPRYLYL GLYCOL
皮膚調理,頭髮調理,保濕,柔潤劑,氣味抑製劑,溶劑 1
稻米發酵產物濾液
RICE FERMENT FILTRATE (SAKE)
皮膚調理,抗氧化 1
酵母菌多肽類
SACCHAROMYCES POLYPEPTIDES
皮膚調理,抗衰
玫瑰(ROSA RUGOSA)花水
ROSA RUGOSA FLOWER WATER
抗衰,抗氧化
甲基葡糖醇聚醚-10
METHYL GLUCETH-10
保濕,表面活性劑,乳化劑 1
藥用大黃(RHEUM OFFICINALE)提取物
RHEUM OFFICINALE EXTRACT
抗衰,皮膚調理,抗氧化
酵母菌發酵產物濾液
SACCHAROMYCES FERMENT FILTRATE
抗衰,皮膚調理,保濕,抗氧化 1
雪蓮花(SAUSSUREA INVOLUCRATA)提取物
SAUSSUREA INVOLUCRATA EXTRACT
保濕 1
乙基己基甘油
ETHYLHEXYLGLYCERIN
皮膚調理,保濕,柔潤劑,氣味抑製劑 2
癸二醇
DECYLENE GLYCOL
皮膚調理,柔潤劑 1
對羥基苯乙酮
HYDROXYACETOPHENONE
抗氧化 1
聚谷氨酸鈉
SODIUM POLYGLUTAMATE
皮膚調理,頭髮調理,保濕 1
羧甲基脫乙酰殼多糖
CARBOXYMETHYL CHITOSAN
修護,舒敏,皮膚調理,膠凝劑,成膜劑,黏度控制
谷胱甘肽
GLUTATHIONE
抗衰,皮膚調理,抗氧化,還原劑 1
EDTA 二鈉
DISODIUM EDTA
螯合劑,黏度控制 1
透明質酸鈉
SODIUM HYALURONATE
抗衰,皮膚調理,保濕 1
β-葡聚糖
BETA-GLUCAN
修護,舒敏,皮膚調理,保濕 1
乙酰羥脯氨酸
ACETYL HYDROXYPROLINE
皮膚防護,皮膚調理,保濕,頭髮調理,柔潤劑 1
銀耳(TREMELLA FUCIFORMIS)子實體提取物
TREMELLA FUCIFORMIS SPOROCARP EXTRACT
皮膚調理,抗氧化,頭髮調理,保濕 1

溫馨提示:
1、 綠色表示安全。橙色表示較安全。紅色表示潛在風險成分。灰色表示暫無數據。
2、安全風險從0-10,數字越高代表風險越大,主要針對長期使用之安全性進行評估。
3、致痘風險等級分為【低-中-高】,如沒有標記,則代表此成分無致痘風險。