御泥坊氨基酸泥漿精華面膜
品牌:御泥坊
企業:水羊化妝品製造有限公司
分類:其他面膜
成分 概略特性 活性 風險 安心度
WATER@!@AQUA
皮膚調理,溶劑 1
羥乙基脲
HYDROXYETHYL UREA
皮膚調理,保濕,頭髮調理 1
伊利水雲母
ILLITE
皮膚調理,去角質,吸附劑,填充劑,抗結塊劑,摩擦劑 1
丁二醇
BUTYLENE GLYCOL
皮膚調理,保濕,溶劑,黏度控制 1
水輝石
HECTORITE
吸附劑,填充劑,增稠劑,黏度控制 1-2
硅石
SILICA
去角質,吸附劑,填充劑,抗結塊劑,摩擦劑,膚感調節劑,黏度控制,不透明劑
硅酸鋁鉀鈉
SODIUM POTASSIUM ALUMINUM SILICATE
填充劑 2
CI 77891
CI 77891
著色劑 色素
賴氨酸
LYSINE
皮膚調理,頭髮調理,抗靜電 1
組氨酸
HISTIDINE
皮膚調理,保濕,頭髮調理,抗靜電 1
精氨酸
ARGININE
皮膚調理,頭髮調理,保濕,抗靜電,pH調節劑 1
天冬氨酸
ASPARTIC ACID
抗衰,皮膚調理,抗氧化,頭髮調理,抗靜電 1
蘇氨酸
THREONINE
皮膚調理,頭髮調理,抗靜電 1
絲氨酸
SERINE
皮膚調理,保濕,頭髮調理,抗靜電 1
谷氨酸
GLUTAMIC ACID
皮膚調理,保濕,頭髮調理,抗靜電 1
脯氨酸
PROLINE
皮膚調理,頭髮調理 1
甘氨酸
GLYCINE
皮膚調理,頭髮調理,抗靜電 1
丙氨酸
ALANINE
皮膚調理,抗氧化,頭髮調理,抗靜電 1
纈氨酸
VALINE
皮膚調理,頭髮調理,抗靜電 1
異亮氨酸
ISOLEUCINE
皮膚調理,頭髮調理,抗靜電,柔潤劑 1
亮氨酸
LEUCINE
皮膚調理,頭髮調理,抗靜電 1
酪氨酸
TYROSINE
皮膚調理,頭髮調理,抗靜電 1
苯丙氨酸
PHENYLALANINE
皮膚調理,頭髮調理,抗靜電 1
甜菜鹼
BETAINE
皮膚調理,頭髮調理,保濕,抗靜電,表面活性劑,黏度控制 1
PCA 鈉
SODIUM PCA
皮膚調理,控油,頭髮調理,保濕,抗靜電 1
乳酸鈉
SODIUM LACTATE
去角質,保濕,pH調節劑 1-3
吡咯烷酮羧酸
PCA
皮膚調理,頭髮調理,保濕 2
賴氨酸鹽酸鹽
LYSINE HCL
皮膚調理,頭髮調理,柔潤劑 1
辛酰甘氨酸
CAPRYLOYL GLYCINE
皮膚調理,控油,頭髮調理,氣味抑製劑,清潔劑,表面活性劑 1
煙酰胺
NIACINAMIDE
抗糖化,抗衰,皮膚調理,抗氧化,頭髮調理,去角質,保濕 1
肌醇
INOSITOL
皮膚調理,保濕,頭髮調理,抗靜電,皮膚滲透劑 1
泛醇
PANTHENOL@!@UBIQUINOL
指甲護理,皮膚防護,皮膚調理,抗氧化,頭髮調理,保濕,抗靜電,柔潤劑 1
尿囊素
ALLANTOIN
修護,舒敏,皮膚防護,皮膚調理,收斂,頭髮調理,保濕 1
植物甾醇/辛基十二醇月桂酰谷氨酸酯
PHYTOSTERYL/OCTYLDODECYL LAUROYL GLUTAMATE
皮膚調理,柔潤劑 1
生育酚(維生素E)
TOCOPHEROL
修護,抗衰,皮膚調理,抗氧化,保濕 致痘風險等級(低) 1
玉蘭(MAGNOLIA DENUDATA)花提取物
MAGNOLIA DENUDATE FLOWER EXTRACT
抗衰,舒敏,皮膚調理,抗氧化
牡丹(PAEONIA SUFFRUTICOSA)根皮提取物
PAEONIA SUFFRUTICOSA ROOT BARK EXTRACT
收斂,抗氧化
黃芩(SCUTELLARIA BAICALENSIS)提取物
SCUTELLARIA BAICALENSIS EXTRACT
抗氧化 1
雙丙甘醇
DIPROPYLENE GLYCOL
保濕,溶劑,黏度控制 1-2
對羥基苯乙酮
HYDROXYACETOPHENONE
抗氧化 1
聚丙烯酰胺
POLYACRYLAMIDE
增稠劑,成膜劑,抗靜電,粘合劑 2-4
C13-14 異鏈烷烴
C13-14 ISOPARAFFIN
皮膚調理,柔潤劑,溶劑 1
月桂醇聚醚-7
LAURETH-7
清潔劑,表面活性劑,乳化劑 1-3
氫氧化鋁
ALUMINUM HYDROXIDE
皮膚防護,皮膚調理,保濕,增稠劑,柔潤劑,黏度控制,不透明劑 1
1,2-己二醇
1,2-HEXANEDIOL
皮膚調理,保濕,溶劑 1
CI 77288
CI 77288
著色劑 色素
CI 77492
CI 77492
著色劑 色素

溫馨提示:
1、 綠色表示安全。橙色表示較安全。紅色表示潛在風險成分。灰色表示暫無數據。
2、安全風險從0-10,數字越高代表風險越大,主要針對長期使用之安全性進行評估。
3、致痘風險等級分為【低-中-高】,如沒有標記,則代表此成分無致痘風險。