ZEEYEE豆元祛痘膏
企業:上海資顏化妝品有限公司
分類:祛痘膏
成分 概略特性 活性 風險 安心度
WATER@!@AQUA
溶劑 1
丁二醇
BUTYLENE GLYCOL
皮膚調理,保濕,溶劑,黏度控制 1
丙二醇
PROPYLENE GLYCOL
皮膚調理,保濕,溶劑,黏度控制 3
葡聚糖
DEXTRAN
皮膚調理,保濕,粘合劑,黏度控制 1
忍冬(LONICERA JAPONICA)提取物
SUIKAZURA EKISU@!@LONICERA JAPONICA EXTRACT@!@NINDOU EKISU
皮膚調理,祛痘
丹參(SALVIA MILTIORRHIZA)根提取物
SALVIA MILTIORRHIZA ROOT EXTRACT
抗衰,皮膚調理,抗氧化,健美
白花蛇舌草(HEDYOTIS DIFFUSA)提取物
HEDYOTIS DIFFUSA EXTRACT
小果皂莢(GLEDITSIA AUSTRALIS)籽提取物
GLEDITSIA AUSTRALIS SEED EXTRACT
皮膚調理,頭髮調理 1
蒲公英(TARAXACUM MONGOLICUM)提取物
TARAXACUM MONGOLICUM EXTRACT
抗衰,祛痘,皮膚調理,抗氧化
丙烯酸羥乙酯/丙烯酰二甲基牛磺酸鈉共聚物
HYDROXYETHYL ACRYLATE/SODIUM ACRYLOYLDIMETHYL TAURATE COPOLYMER
增稠劑,黏度控制,乳化劑,乳化穩定劑 1
丙烯酸鈉/丙烯酰二甲基牛磺酸鈉共聚物
SODIUM ACRYLATE/SODIUM ACRYLOYLDIMETHYL TAURATE COPOLYMER
增稠劑,成膜劑,抗結塊劑,黏度控制,不透明劑,乳化穩定劑 1
異十六烷
ISOHEXADECANE
皮膚調理,柔潤劑,溶劑 1
聚山梨醇酯-80
POLYSORBATE 80
變性劑,清潔劑,表面活性劑,乳化劑 3
丹參(SALVIA MILTIORRHIZA)提取物
SALVIA MILTIORRHIZA EXTRACT
抗衰,皮膚調理,抗氧化,頭髮調理 1
粉防己(STEPHANIA TETRANDRA)提取物
STEPHANIA TETRANDRA EXTRACT
舒敏,收斂
甜菜鹼水楊酸鹽
BETAINE SALICYLATE
皮膚調理,去角質 孕婦慎用成分 1
透明質酸鈉
SODIUM HYALURONATE
抗衰,皮膚調理,保濕 1
芫荽(CORIANDRUM SATIVUM)籽油
CORIANDRUM SATIVUM (CORIANDER) SEED OIL
皮膚調理,柔潤劑
EDTA 二鈉
DISODIUM EDTA
螯合劑,黏度控制 1
DMDM 乙內酰脲
DMDM HYDANTOIN
防腐劑,不透明劑 一般防腐劑、甲醛釋放體防腐劑 6
碘丙炔醇丁基氨甲酸酯
IODOPROPYNYL BUTYLCARBAMATE
防腐劑,不透明劑 一般防腐劑 4-5
甲基異噻唑啉酮
METHYLISOTHIAZOLINONE
防腐劑,不透明劑 一般防腐劑、MIT/CMIT防腐劑 7

溫馨提示:
1、 綠色表示安全。橙色表示較安全。紅色表示潛在風險成分。灰色表示暫無數據。
2、安全風險從0-10,數字越高代表風險越大,主要針對長期使用之安全性進行評估。
3、致痘風險等級分為【低-中-高】,如沒有標記,則代表此成分無致痘風險。