+WIS+ 水潤凈化黑面膜成分表和安全分析 | 粤G妆网备字2018198411

+WIS+ 水潤凈化黑面膜

品牌：WIS
企業：廣州慕可生物科技有限公司
分類：其他面膜

成分	概略特性	風險	安心度
水 WATER@!@AQUA	溶劑		1
丙二醇 PROPYLENE GLYCOL	保濕		3
丁二醇 BUTYLENE GLYCOL	保濕		1
黃原膠 XANTHAN GUM	增稠劑		1
尿囊素 ALLANTOIN	舒緩,保濕		1
透明質酸鈉 SODIUM HYALURONATE	修護,抗衰,舒緩,保濕		1
對羥基苯乙酮 HYDROXYACETOPHENONE	抗氧化		1
1,2-己二醇 1,2-HEXANEDIOL	保濕		1
甘油聚醚-26 GLYCERETH-26	保濕		1
甘油聚甲基丙烯酸酯 GLYCERYL POLYMETHACRYLATE	保濕,增稠劑,成膜劑,黏度控制		1
PVM/MA 共聚物 PVM/MA COPOLYMER	發用定型,增稠劑,成膜劑,抗靜電,粘合劑,黏度控制,乳化穩定劑		1
甘油 GLYCERIN	保濕		1-2
迷迭香(ROSMARINUS OFFICINALIS)葉提取物 ROSMARINUS OFFICINALIS (ROSEMARY) LEAF EXTRACT	抗衰,收斂,抗氧化		1
黃芩(SCUTELLARIA BAICALENSIS)根提取物 SCUTELLARIA BAICALENSIS ROOT EXTRACT	抗衰,舒緩,抗氧化		1
虎杖(POLYGONUM CUSPIDATUM)根提取物 POLYGONUM CUSPIDATUM ROOT EXTRACT	抗衰,抗氧化		1
茶(CAMELLIA SINENSIS)葉提取物 CAMELLIA SINENSIS LEAF EXTRACT	抗衰,收斂,抗氧化,口腔護理,保濕		2-4
光果甘草(GLYCYRRHIZA GLABRA)提取物 GLYCYRRHIZA GLABRA EXTRACT@!@KANZOU EKISU	舒緩,抗氧化,保濕
母菊(CHAMOMILLA RECUTITA)花提取物 CHAMOMILLA RECUTITA (MATRICARIA) FLOWER EXTRACT	抗衰,舒緩,抗氧化		2
積雪草(CENTELLA ASIATICA)提取物 CENTELLA ASIATICA EXTRACT	抗皺,修護,舒緩,抗氧化,保濕		1
珍珠提取物 PEARL EXTRACT	皮膚調理,抗氧化
薄荷酮甘油縮酮 MENTHONE GLYCERIN ACETAL	皮膚調理,清涼劑		1
PEG-40 氫化蓖麻油 PEG-40 HYDROGENATED CASTOR OIL	乳化劑	含PEG的成分	1-3
香精 PARFUM@!@AROMA	香精香料	香精香料

溫馨提示：
1、綠色表示安全。橙色表示較安全。紅色表示潛在風險成分。灰色表示暫無數據。
2、安全風險從0-10,數字越高代表風險越大，主要針對長期使用之安全性進行評估。
3、致痘風險等級分為【低-中-高】，如沒有標記，則代表此成分無致痘風險。