光殿女神微雕塑顏蠶絲面膜
品牌:光殿女神
企業:廣州巨和化妝品有限公司
分類:其他面膜
成分 概略特性 活性 風險 安心度
WATER@!@AQUA
皮膚調理,溶劑 1
甘油
GLYCERIN
皮膚防護,皮膚調理,頭髮調理,口腔護理,保濕,變性劑,溶劑,黏度控制 1-2
甜菜鹼
BETAINE
皮膚調理,頭髮調理,保濕,抗靜電,表面活性劑,黏度控制 1
羥乙基脲
HYDROXYETHYL UREA
皮膚調理,保濕,頭髮調理 1
聚季銨鹽-51
POLYQUATERNIUM-51
皮膚調理,成膜劑 1
卡波姆
CARBOMER
膠凝劑,增稠劑,黏度控制,乳化穩定劑 1
三乙醇胺
TRIETHANOLAMINE
清潔劑,表面活性劑,pH調節劑,乳化劑 致痘風險等級(低) 5
黃原膠
XANTHAN GUM
皮膚調理,膠凝劑,增稠劑,清潔劑,粘合劑,表面活性劑,黏度控制,乳化劑,乳化穩定劑 1
羥乙基纖維素
HYDROXYETHYLCELLULOSE
頭髮調理,增稠劑,成膜劑,粘合劑,黏度控制,乳化穩定劑 1
透明質酸鈉
SODIUM HYALURONATE
抗衰,皮膚調理,保濕 1
聚谷氨酸鈉
SODIUM POLYGLUTAMATE
皮膚調理,頭髮調理,保濕 1
燕麥(AVENA SATIVA)仁提取物
AVENA SATIVA (OAT) KERNEL EXTRACT
皮膚調理,抗氧化,摩擦劑,柔潤劑 1
寡肽-1
OLIGOPEPTIDE-1
抗衰,皮膚調理,抗氧化,保濕 1
1,3-丙二醇
PROPANEDIOL
保濕,增稠劑,溶劑,黏度控制 2
辛酰羥肟酸
CAPRYLHYDROXAMIC ACID
螯合劑 1

溫馨提示:
1、 綠色表示安全。橙色表示較安全。紅色表示潛在風險成分。灰色表示暫無數據。
2、安全風險從0-10,數字越高代表風險越大,主要針對長期使用之安全性進行評估。
3、致痘風險等級分為【低-中-高】,如沒有標記,則代表此成分無致痘風險。