霓凈思角鯊烷補水亮顏面膜
品牌:霓凈思
企業:德典(上海)貿易有限公司
分類:其他面膜
成分 概略特性 活性 風險 安心度
WATER@!@AQUA
皮膚調理,溶劑 1
丁二醇
BUTYLENE GLYCOL
皮膚調理,保濕,溶劑,黏度控制 1
甘油
GLYCERIN
皮膚防護,皮膚調理,頭髮調理,口腔護理,保濕,變性劑,溶劑,黏度控制 1-2
甲基葡糖醇聚醚-20
METHYL GLUCETH-20
保濕,表面活性劑 1
對羥基苯乙酮
HYDROXYACETOPHENONE
抗氧化 1
氯苯甘醚
CHLORPHENESIN
防腐劑,不透明劑 一般防腐劑 3
PEG-40 氫化蓖麻油
PEG-40 HYDROGENATED CASTOR OIL
清潔劑,表面活性劑,乳化劑 含PEG的成分 1-3
煙酰胺
NIACINAMIDE
抗糖化,抗衰,皮膚調理,抗氧化,頭髮調理,去角質,保濕 1
羥乙基脲
HYDROXYETHYL UREA
皮膚調理,保濕,頭髮調理 1
苯氧乙醇
PHENOXYETHANOL
防腐劑 一般防腐劑 2-4
尿囊素
ALLANTOIN
修護,舒敏,皮膚防護,皮膚調理,收斂,頭髮調理,保濕 1
糖基海藻糖
GLYCOSYL TREHALOSE
皮膚調理,保濕,成膜劑,乳化穩定劑 1
氫化澱粉水解物
HYDROGENATED STARCH HYDROLYSATE
皮膚調理,保濕 1
積雪草(CENTELLA ASIATICA)提取物
CENTELLA ASIATICA EXTRACT
修護,舒敏,皮膚調理,抗氧化,保濕,清潔劑 1
迷迭香(ROSMARINUS OFFICINALIS)葉提取物
ROSMARINUS OFFICINALIS (ROSEMARY) LEAF EXTRACT
抗衰,皮膚調理,收斂,抗氧化 1
母菊(CHAMOMILLA RECUTITA)花提取物
CHAMOMILLA RECUTITA (MATRICARIA) FLOWER EXTRACT
抗衰,舒敏,皮膚調理,抗氧化 2
光果甘草(GLYCYRRHIZA GLABRA)根提取物
GLYCYRRHIZA GLABRA (LICORICE) ROOT EXTRACT
舒敏,皮膚調理,保濕,柔潤劑 5
茶(CAMELLIA SINENSIS)葉提取物
CAMELLIA SINENSIS LEAF EXTRACT
抗衰,皮膚防護,皮膚調理,收斂,抗氧化,口腔護理,保濕,柔潤劑 1-2
黃芩(SCUTELLARIA BAICALENSIS)根提取物
SCUTELLARIA BAICALENSIS ROOT EXTRACT
抗衰,舒敏,收斂,抗氧化,保濕 1
虎杖(POLYGONUM CUSPIDATUM)根提取物
POLYGONUM CUSPIDATUM ROOT EXTRACT
抗衰,皮膚調理,抗氧化 1
丙烯酸(酯)類/C10-30 烷醇丙烯酸酯交聯聚合物
ACRYLATES/C10-30 ALKYL ACRYLATE CROSSPOLYMER
增稠劑,成膜劑,表面活性劑,黏度控制,乳化穩定劑 1
黃原膠
XANTHAN GUM
皮膚調理,膠凝劑,增稠劑,清潔劑,粘合劑,表面活性劑,黏度控制,乳化劑,乳化穩定劑 1
藻酸鈉
ALGIN
增稠劑,粘合劑,黏度控制 1
辛酰羥肟酸
CAPRYLHYDROXAMIC ACID
螯合劑 1
角鯊烷
SQUALANE
皮膚調理,頭髮調理,保濕,抗靜電,柔潤劑,賦脂劑 1
三乙醇胺
TRIETHANOLAMINE
清潔劑,表面活性劑,pH調節劑,乳化劑 致痘風險等級(低) 5
山梨(糖)醇
SORBITOL
皮膚調理,保濕 1
透明質酸鈉
SODIUM HYALURONATE
抗衰,皮膚調理,保濕 1
(日用)香精
FRAGRANCE
吸附劑,香精香料 香精香料

溫馨提示:
1、 綠色表示安全。橙色表示較安全。紅色表示潛在風險成分。灰色表示暫無數據。
2、安全風險從0-10,數字越高代表風險越大,主要針對長期使用之安全性進行評估。
3、致痘風險等級分為【低-中-高】,如沒有標記,則代表此成分無致痘風險。