御芙萃益母草祛痘淡印面膜成分表和安全分析 | 京G妆网备字2017006501

御芙萃益母草祛痘淡印面膜

品牌：御芙萃
企業：御芙萃（北京）生物科技有限公司
分類：其他面膜

成分	概略特性	風險	安心度
水 WATER@!@AQUA	皮膚調理,溶劑		1
女貞子(LIGUSTRUM LUCIDUM)提取物 LIGUSTRUM LUCIDUM EXTRACT	皮膚調理
柴胡(BUPLEURUM CHINENSE)提取物 BUPLEURUM CHINENSE EXTRACT	皮膚調理
佛手(CITRUS MEDICA SARCODACTYLIS)提取物 CITRUS MEDICA SARCODACTYLIS EXTRACT	抗氧化,抗衰
益母草(LEONURUS ARTEMISIA)提取物 LEONURUS ARTEMISIA EXTRACT	抗氧化,抗衰
丹參(SALVIA MILTIORRHIZA)根提取物 SALVIA MILTIORRHIZA ROOT EXTRACT	抗衰,皮膚調理,抗氧化,健美
光果甘草(GLYCYRRHIZA GLABRA)提取物 GLYCYRRHIZA GLABRA EXTRACT@!@KANZOU EKISU	皮膚調理,抗氧化,保濕
地黃(REHMANNIA GLUTINOSA)提取物 REHMANNIA GLUTINOSA EXTRACT
連翹(FORSYTHIA SUSPENSA)提取物 FORSYTHIA SUSPENSA EXTRACT	抗氧化,抗衰
丁二醇 BUTYLENE GLYCOL	皮膚調理,保濕,溶劑,黏度控制		1
甘油 GLYCERIN	皮膚防護,皮膚調理,頭髮調理,口腔護理,保濕,變性劑,溶劑,黏度控制		1-2
丙二醇 PROPYLENE GLYCOL	皮膚調理,保濕,溶劑,黏度控制		3
聚乙二醇-32 PEG-32	保濕,溶劑	含PEG的成分	1-3
PEG-40 氫化蓖麻油 PEG-40 HYDROGENATED CASTOR OIL	清潔劑,表面活性劑,乳化劑	含PEG的成分	1-3
EDTA 二鈉 DISODIUM EDTA	螯合劑,黏度控制		1
透明質酸鈉 SODIUM HYALURONATE	抗衰,皮膚調理,保濕		1
肌肽 CARNOSINE	抗糖化,抗衰,舒敏,皮膚調理,抗氧化,保濕		1
黃原膠 XANTHAN GUM	皮膚調理,膠凝劑,增稠劑,清潔劑,粘合劑,表面活性劑,黏度控制,乳化劑,乳化穩定劑		1
卡波姆 CARBOMER	膠凝劑,增稠劑,黏度控制,乳化穩定劑		1
氫氧化鉀 POTASSIUM HYDROXIDE	pH調節劑		2-5
1,2-己二醇 1,2-HEXANEDIOL	皮膚調理,保濕,溶劑		1
辛酰羥肟酸 CAPRYLHYDROXAMIC ACID	螯合劑		1
互生葉白千層(MELALEUCA ALTERNIFOLIA)葉油 MELALEUCA ALTERNIFOLIA (TEA TREE) LEAF OIL	祛痘,皮膚調理,保濕,抗氧化		6
薰衣草(LAVANDULA ANGUSTIFOLIA)油 LAVANDULA ANGUSTIFOLIA (LAVENDER) OIL	皮膚調理		2

溫馨提示：
1、綠色表示安全。橙色表示較安全。紅色表示潛在風險成分。灰色表示暫無數據。
2、安全風險從0-10,數字越高代表風險越大，主要針對長期使用之安全性進行評估。
3、致痘風險等級分為【低-中-高】，如沒有標記，則代表此成分無致痘風險。