奧詩娜礦物保濕面膜
品牌:奧詩娜
企業:惠州鴻財化妝品有限公司
分類:其他面膜
成分 概略特性 活性 風險 安心度
WATER@!@AQUA
皮膚調理,溶劑 1
丙二醇
PROPYLENE GLYCOL
皮膚調理,保濕,溶劑,黏度控制 3
卡波姆
CARBOMER
膠凝劑,增稠劑,黏度控制,乳化穩定劑 1
苯氧乙醇
PHENOXYETHANOL
防腐劑 一般防腐劑 2-4
乙基己基甘油
ETHYLHEXYLGLYCERIN
皮膚調理,保濕,柔潤劑,氣味抑製劑 2
甘油
GLYCERIN
皮膚防護,皮膚調理,頭髮調理,口腔護理,保濕,變性劑,溶劑,黏度控制 1-2
環五聚二甲基硅氧烷
CYCLOPENTASILOXANE
皮膚調理,頭髮調理,增稠劑,柔潤劑,溶劑 硅油 3
聚二甲基硅氧烷醇
DIMETHICONOL
皮膚調理,頭髮調理,保濕,增稠劑,柔潤劑,消泡劑 硅油 1
泛醇
PANTHENOL@!@UBIQUINOL
指甲護理,皮膚防護,皮膚調理,抗氧化,頭髮調理,保濕,抗靜電,柔潤劑 1
三乙醇胺
TRIETHANOLAMINE
清潔劑,表面活性劑,pH調節劑,乳化劑 致痘風險等級(低) 5
油橄欖(OLEA EUROPAEA)葉提取物
OLEA EUROPAEA (OLIVE) LEAF EXTRACT
皮膚調理 1
甲基異噻唑啉酮
METHYLISOTHIAZOLINONE
防腐劑,不透明劑 一般防腐劑、MIT/CMIT防腐劑 7
(日用)香精
FRAGRANCE
吸附劑,香精香料 香精香料
海鹽
SEA SALT@!@MARIS SAL
皮膚調理,保濕,頭髮調理,去角質,摩擦劑 1

溫馨提示:
1、 綠色表示安全。橙色表示較安全。紅色表示潛在風險成分。灰色表示暫無數據。
2、安全風險從0-10,數字越高代表風險越大,主要針對長期使用之安全性進行評估。
3、致痘風險等級分為【低-中-高】,如沒有標記,則代表此成分無致痘風險。