御方风云养肤膜成分表和安全分析 | 粤G妆网备字2023026128

御方风云养肤膜

品牌：御方
企业：广州市茗妍化妆品有限公司
分类：其他面膜

成分	概略特性	风险	安心度
水 WATER@!@AQUA	溶剂		1
丙二醇 PROPYLENE GLYCOL	保湿		3
甜菜碱 BETAINE	保湿		1
北美金缕梅(HAMAMELIS VIRGINIANA)水 HAMAMELIS VIRGINIANA (WITCH HAZEL) WATER	保湿,祛痘,舒缓,收敛,抗氧化		1
丁二醇 BUTYLENE GLYCOL	保湿		1
1,2-己二醇 1,2-HEXANEDIOL	保湿		1
对羟基苯乙酮 HYDROXYACETOPHENONE	抗氧化		1
羟乙基纤维素 HYDROXYETHYLCELLULOSE	增稠剂		1
卡波姆 CARBOMER	增稠剂		1
三乙醇胺 TRIETHANOLAMINE	pH调节剂	致痘风险等级（低）	6
蜂蜜提取物 HONEY EXTRACT	皮肤调理,保湿		1
β-葡聚糖 BETA-GLUCAN	修护,舒缓,保湿		1
积雪草(CENTELLA ASIATICA)提取物 CENTELLA ASIATICA EXTRACT	抗皱,修护,舒缓,抗氧化,保湿		1
PEG-40 氢化蓖麻油 PEG-40 HYDROGENATED CASTOR OIL	乳化剂	含PEG的成分	1-3
油醇聚醚-20 OLETH-20	清洁剂,表面活性剂,乳化剂		1-3
虎杖(POLYGONUM CUSPIDATUM)根提取物 POLYGONUM CUSPIDATUM ROOT EXTRACT	抗衰,抗氧化		1
黄芩(SCUTELLARIA BAICALENSIS)根提取物 SCUTELLARIA BAICALENSIS ROOT EXTRACT	抗衰,舒缓,抗氧化		1
(日用)香精 FRAGRANCE	吸附剂,香精香料	香精香料
聚乙二醇-8 PEG-8	保湿	含PEG的成分	1-3
薄荷脑 MENTHOLUM	清凉剂
光果甘草(GLYCYRRHIZA GLABRA)根提取物 GLYCYRRHIZA GLABRA (LICORICE) ROOT EXTRACT	抗氧化,舒缓		5
茶(CAMELLIA SINENSIS)叶提取物 CAMELLIA SINENSIS LEAF EXTRACT	抗衰,收敛,抗氧化,口腔护理,保湿		2-4
羟苯甲酯 METHYLPARABEN	防腐剂	、一般防腐剂、尼泊金酯类防腐剂	3-4
迷迭香(ROSMARINUS OFFICINALIS)叶提取物 ROSMARINUS OFFICINALIS (ROSEMARY) LEAF EXTRACT	抗衰,收敛,抗氧化		1
母菊(CHAMOMILLA RECUTITA)花提取物 CHAMOMILLA RECUTITA (MATRICARIA) FLOWER EXTRACT	抗衰,舒缓,抗氧化		2
CI 19140 CI 19140@!@KI4	着色剂	色素	4-6
聚山梨醇酯-60 POLYSORBATE 60	乳化剂		1-3
磷酸氢二钠 DISODIUM PHOSPHATE	pH调节剂		1
CI 42090 CI 42090@!@AO1@!@AO205	着色剂	色素	3-8
磷酸二氢钠 SODIUM PHOSPHATE	pH调节剂		1

温馨提示：
1、绿色表示安全。橙色表示较安全。红色表示潜在风险成分。灰色表示暂无数据。
2、安全风险从0-10,数字越高代表风险越大，主要针对长期使用之安全性进行评估。
3、致痘风险等级分为【低-中-高】，如没有标记，则代表此成分无致痘风险。