光殿女神-魅力更新修护面膜
品牌:光殿女神
企业:广州巨和化妆品有限公司
分类:其他面膜
成分 概略特性 活性 风险 安心度
WATER@!@AQUA
皮肤调理,溶剂 1
丁二醇
BUTYLENE GLYCOL
皮肤调理,保湿,溶剂,黏度控制 1
PEG/PPG-17/6 共聚物
PEG/PPG-17/6 COPOLYMER
溶剂,表面活性剂 含PEG的成分 3
甘油聚醚-26
GLYCERETH-26
保湿,表面活性剂,黏度控制 1
乙酰谷氨酰胺
ACETYL GLUTAMINE
皮肤调理 1
积雪草(CENTELLA ASIATICA)根提取物
CENTELLA ASIATICA ROOT EXTRACT
皮肤调理,抗衰,保湿
羧甲基纤维素钙
CALCIUM CARBOXYMETHYL CELLULOSE
增稠剂,成膜剂,黏度控制,乳化稳定剂
虎杖(POLYGONUM CUSPIDATUM)根提取物
POLYGONUM CUSPIDATUM ROOT EXTRACT
抗衰,皮肤调理,抗氧化 1
磷酸氢二钾
DIPOTASSIUM PHOSPHATE
pH调节剂 1
黄芩(SCUTELLARIA BAICALENSIS)根提取物
SCUTELLARIA BAICALENSIS ROOT EXTRACT
抗衰,舒敏,收敛,抗氧化,保湿 1
羟乙基纤维素
HYDROXYETHYLCELLULOSE
头发调理,增稠剂,成膜剂,粘合剂,黏度控制,乳化稳定剂 1
茶(CAMELLIA SINENSIS)叶提取物
CAMELLIA SINENSIS LEAF EXTRACT
抗衰,皮肤防护,皮肤调理,收敛,抗氧化,口腔护理,保湿,柔润剂 1-2
光果甘草(GLYCYRRHIZA GLABRA)根提取物
GLYCYRRHIZA GLABRA (LICORICE) ROOT EXTRACT
舒敏,皮肤调理,保湿,柔润剂 5
透明质酸钠
SODIUM HYALURONATE
抗衰,皮肤调理,保湿 1
母菊(CHAMOMILLA RECUTITA)花提取物
CHAMOMILLA RECUTITA (MATRICARIA) FLOWER EXTRACT
抗衰,舒敏,皮肤调理,抗氧化 2
磷脂酰胆碱
PHOSPHATIDYLCHOLINE
皮肤调理,表面活性剂,乳化剂 1
迷迭香(ROSMARINUS OFFICINALIS)叶提取物
ROSMARINUS OFFICINALIS (ROSEMARY) LEAF EXTRACT
抗衰,皮肤调理,收敛,抗氧化 1
寡肽-1
OLIGOPEPTIDE-1
抗衰,皮肤调理,抗氧化,保湿 1
辛二醇
OCTANEDIOL
增塑剂 1
1,2-己二醇
1,2-HEXANEDIOL
皮肤调理,保湿,溶剂 1
7-脱氢胆甾醇
7-DEHYDROCHOLESTEROL
皮肤调理,黏度控制,乳化稳定剂 1
羟丙基环糊精
HYDROXYPROPYL CYCLODEXTRIN
皮肤调理,肤感调节剂,螯合剂,乳化稳定剂 1
羟苯甲酯
METHYLPARABEN
防腐剂,不透明剂 一般防腐剂、尼泊金酯类防腐剂 3-4
氯苯甘醚
CHLORPHENESIN
防腐剂,不透明剂 一般防腐剂 3

温馨提示:
1、 绿色表示安全。橙色表示较安全。红色表示潜在风险成分。灰色表示暂无数据。
2、安全风险从0-10,数字越高代表风险越大,主要针对长期使用之安全性进行评估。
3、致痘风险等级分为【低-中-高】,如没有标记,则代表此成分无致痘风险。