葆芙元 豆喱祛痘离子菁华面膜
品牌:葆芙元
企业:深圳葆芙元生物科技有限公司
分类:其他面膜
成分 概略特性 活性 风险 安心度
WATER@!@AQUA
皮肤调理,溶剂 1
连翘(FORSYTHIA SUSPENSA)提取物
FORSYTHIA SUSPENSA EXTRACT
抗氧化,抗衰
牡丹(PAEONIA SUFFRUTICOSA)根皮提取物
PAEONIA SUFFRUTICOSA ROOT BARK EXTRACT
收敛,抗氧化
白花蛇舌草(HEDYOTIS DIFFUSA)提取物
HEDYOTIS DIFFUSA EXTRACT
川赤芍(PAEONIA VEITCHII)提取物
PAEONIA VEITCHII EXTRACT
苦参(SOPHORA ANGUSTIFOLIA)根提取物
SOPHORA ANGUSTIFOLIA ROOT EXTRACT
皮肤调理,抗氧化,柔润剂 1
黄芩(SCUTELLARIA BAICALENSIS)提取物
SCUTELLARIA BAICALENSIS EXTRACT
抗氧化 1
丹参(SALVIA MILTIORRHIZA)提取物
SALVIA MILTIORRHIZA EXTRACT
抗衰,皮肤调理,抗氧化,头发调理 1
甘油
GLYCERIN
皮肤防护,皮肤调理,头发调理,口腔护理,保湿,变性剂,溶剂,黏度控制 1-2
羟乙基纤维素
HYDROXYETHYLCELLULOSE
头发调理,增稠剂,成膜剂,粘合剂,黏度控制,乳化稳定剂 1
丁二醇
BUTYLENE GLYCOL
皮肤调理,保湿,溶剂,黏度控制 1
甘油聚甲基丙烯酸酯
GLYCERYL POLYMETHACRYLATE
保湿,增稠剂,成膜剂,黏度控制 1
透明质酸
HYALURONIC ACID
修护,皮肤调理,保湿,抗静电 1
马齿苋(PORTULACA OLERACEA)提取物
PORTULACA OLERACEA EXTRACT
抗衰,皮肤调理,抗氧化,保湿 1
三乙醇胺
TRIETHANOLAMINE
清洁剂,表面活性剂,pH调节剂,乳化剂 致痘风险等级(低) 5
丙二醇
PROPYLENE GLYCOL
皮肤调理,保湿,溶剂,黏度控制 3
卡波姆
CARBOMER
胶凝剂,增稠剂,黏度控制,乳化稳定剂 1
尿囊素
ALLANTOIN
修护,舒敏,皮肤防护,皮肤调理,收敛,头发调理,保湿 1
羟苯甲酯
METHYLPARABEN
防腐剂,不透明剂 一般防腐剂、尼泊金酯类防腐剂 3-4
双(羟甲基)咪唑烷基脲
DIAZOLIDINYL UREA
防腐剂,不透明剂 一般防腐剂、甲醛释放体防腐剂 5
EDTA 二钠
DISODIUM EDTA
螯合剂,黏度控制 1

温馨提示:
1、 绿色表示安全。橙色表示较安全。红色表示潜在风险成分。灰色表示暂无数据。
2、安全风险从0-10,数字越高代表风险越大,主要针对长期使用之安全性进行评估。
3、致痘风险等级分为【低-中-高】,如没有标记,则代表此成分无致痘风险。