修花堂氨基酸洁面乳
品牌:修花堂
企业:上海修花堂化妆品有限公司
分类:洁面乳
成分 概略特性 活性 风险 安心度
WATER@!@AQUA
溶剂 1
丁二醇
BUTYLENE GLYCOL
保湿 1
肉豆蔻酸
MYRISTIC ACID
清洁剂,表面活性剂,乳化剂 致痘风险等级(中) 1
月桂酸
LAURIC ACID
清洁剂,表面活性剂,乳化剂 致痘风险等级(高) 1
棕榈酸
PALMITIC ACID
润肤剂,清洁剂,表面活性剂 致痘风险等级(低) 1
氢氧化钾
POTASSIUM HYDROXIDE
清洁剂,pH调节剂,表面活性剂 2-5
硬脂酸
STEARIC ACID
清洁剂,表面活性剂,乳化稳定剂 致痘风险等级(低) 1
乙二醇二硬脂酸酯
GLYCOL DISTEARATE
不透明剂 1
椰油酰胺 DEA
COCAMIDE DEA
保湿,增泡剂,清洁剂,表面活性剂,黏度控制,乳化剂,乳化稳定剂 7
月桂基甜菜碱
LAURYL BETAINE
皮肤调理,头发调理,增泡剂,抗静电,清洁剂,表面活性剂 1
甲基椰油酰基牛磺酸钠
SODIUM METHYL COCOYL TAURATE
增泡剂,清洁剂,表面活性剂,乳化剂,表面活性剂 1
椰油酰甘氨酸钠
SODIUM COCOYL GLYCINATE
清洁剂,乳化剂,表面活性剂 1
月桂基甘醇羧酸钠
SODIUM LAURYL GLYCOL CARBOXYLATE
增泡剂,清洁剂,表面活性剂,乳化剂 1
甜菜碱
BETAINE
保湿 1
氯化钠
SODIUM CHLORIDE
皮肤调理,口腔护理,乳化稳定剂 1
丝氨酸
SERINE
皮肤调理,头发调理,保湿,抗静电 1
聚季铵盐-7
POLYQUATERNIUM-7
成膜剂,抗静电 1-5
甘油
GLYCERIN
保湿 1-2
透明质酸钠
SODIUM HYALURONATE
抗衰,保湿 1
PCA 钠
SODIUM PCA
保湿,抗静电 1
苦参(SOPHORA ANGUSTIFOLIA)根提取物
SOPHORA ANGUSTIFOLIA ROOT EXTRACT
皮肤调理,抗氧化,润肤剂 1
乳酸钠
SODIUM LACTATE
去角质,保湿,pH调节剂 1-3
苯甲酸钠
SODIUM BENZOATE
防腐剂 一般防腐剂 1-3
(日用)香精
FRAGRANCE
吸附剂,香精香料 香精香料
EDTA 二钠
DISODIUM EDTA
螯合剂 1
吡咯烷酮羧酸
PCA
皮肤调理,头发调理,保湿 2
丙氨酸
ALANINE
皮肤调理,抗氧化,头发调理,抗静电 1
甘氨酸
GLYCINE
皮肤调理,头发调理,抗静电 1
谷氨酸
GLUTAMIC ACID
皮肤调理,头发调理,保湿,抗静电 1
赖氨酸盐酸盐
LYSINE HCL
皮肤调理,头发调理,润肤剂 1
苏氨酸
THREONINE
皮肤调理,头发调理,抗静电 1
精氨酸
ARGININE
保湿,润肤剂,pH调节剂 1
羟苯甲酯
METHYLPARABEN
防腐剂 、一般防腐剂、尼泊金酯类防腐剂 3-4
EDTA 四钠
TETRASODIUM EDTA
螯合剂 2
脯氨酸
PROLINE
皮肤调理,头发调理 1
羟苯丙酯
PROPYLPARABEN
防腐剂 、一般防腐剂、尼泊金酯类防腐剂 9

温馨提示:
1、 绿色表示安全。橙色表示较安全。红色表示潜在风险成分。灰色表示暂无数据。
2、安全风险从0-10,数字越高代表风险越大,主要针对长期使用之安全性进行评估。
3、致痘风险等级分为【低-中-高】,如没有标记,则代表此成分无致痘风险。