日光之美高原晒后修护面膜
企业：西藏坎巴嘎布卫生用品有限公司
分类：晒后修复
分类：晒后修复
| 成分 | 概略特性 | 活性 | 风险 | 安心度 |
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酵母菌/大米发酵产物滤液
SACCHAROMYCES/RICE FERMENT FILTRATE
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皮肤调理 |
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1 | |
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银耳(TREMELLA FUCIFORMIS)提取物
TREMELLA FUCIFORMIS (MUSHROOM) EXTRACT
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皮肤调理,抗氧化,保湿 |
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1 | |
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小麦(TRITICUM VULGARE)胚芽提取物
TRITICUM VULGARE (WHEAT) GERM EXTRACT
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皮肤防护,皮肤调理,抗氧化 |
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1 | |
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燕麦(AVENA SATIVA)提取物
AVENA SATIVA (OAT) EXTRACT
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皮肤调理,抗氧化,抗衰 |
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大籽蒿(ARTEMISIA SIEVERSIANA)提取物
ARTEMISIA SIEVERSIANA EXTRACT
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木糖醇
XYLITOL
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皮肤调理,保湿 | 1 | ||
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葡萄糖
GLUCOSE
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皮肤调理,保湿 |
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1 | |
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透明质酸钠
SODIUM HYALURONATE
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抗衰,皮肤调理,保湿 |
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1 |
温馨提示：
1、 绿色表示安全。橙色表示较安全。红色表示潜在风险成分。灰色表示暂无数据。
2、安全风险从0-10,数字越高代表风险越大，主要针对长期使用之安全性进行评估。
3、致痘风险等级分为【低-中-高】，如没有标记，则代表此成分无致痘风险。