赫莲娜精准焕肤面膜
品牌:赫莲娜
企业:赫莲娜
分类:其他面膜
成分 概略特性 活性 风险 安心度
WATER@!@AQUA
皮肤调理,溶剂 1
羟乙基脲
HYDROXYETHYL UREA
皮肤调理,头发调理,保湿 1
丁二醇
BUTYLENE GLYCOL
皮肤调理,保湿,溶剂,黏度控制 1
甘油
GLYCERIN
皮肤防护,皮肤调理,头发调理,口腔护理,保湿,变性剂,溶剂,黏度控制 1-2
羟乙基哌嗪乙烷磺酸
HYDROXYETHYLPIPERAZINE ETHANE SULFONIC ACID
皮肤调理,pH调节剂 1
羟乙基纤维素
HYDROXYETHYLCELLULOSE
头发调理,增稠剂,成膜剂,粘合剂,黏度控制,乳化稳定剂 1
苯氧乙醇
PHENOXYETHANOL
防腐剂 一般防腐剂 2-4
辛甘醇
CAPRYLYL GLYCOL
皮肤调理,头发调理,保湿,柔润剂,气味抑制剂,溶剂 1
PPG-6-癸基十四醇聚醚-30
PPG-6-DECYLTETRADECETH-30
清洁剂,表面活性剂,乳化剂 1
生育酚(维生素E)
TOCOPHEROL
修护,抗衰,皮肤调理,抗氧化,保湿 致痘风险等级(低) 1
泛醇
PANTHENOL@!@UBIQUINOL
指甲护理,皮肤防护,皮肤调理,抗氧化,头发调理,保湿,抗静电,柔润剂 1
甘氨酸
GLYCINE
皮肤调理,头发调理,抗静电 1
氢氧化钠
SODIUM HYDROXIDE
变性剂,pH调节剂 1-4
香精
PARFUM@!@AROMA
吸附剂,香精香料 香精香料
EDTA 二钠
DISODIUM EDTA
螯合剂,黏度控制 1
肌醇六磷酸
PHYTIC ACID
螯合剂 2
乳酸
LACTIC ACID
祛痘,皮肤调理,保湿,pH调节剂 1-4
羟基乙酸
GLYCOLIC ACID
祛痘,皮肤调理,去角质,pH调节剂 1-4
羟丙基四氢吡喃三醇
HYDROXYPROPYL TETRAHYDROPYRANTRIOL
抗衰,皮肤调理,抗氧化 1
丙二醇
PROPYLENE GLYCOL
皮肤调理,保湿,溶剂,黏度控制 3
鼠李糖
RHAMNOSE
皮肤调理,舒敏,保湿 1
透明质酸钠
SODIUM HYALURONATE
抗衰,皮肤调理,保湿 1
皱波角叉菜(CHONDRUS CRISPUS)提取物
CHONDRUS CRISPUS EXTRACT
皮肤调理,抗氧化,增稠剂,黏度控制 1

温馨提示:
1、 绿色表示安全。橙色表示较安全。红色表示潜在风险成分。灰色表示暂无数据。
2、安全风险从0-10,数字越高代表风险越大,主要针对长期使用之安全性进行评估。
3、致痘风险等级分为【低-中-高】,如没有标记,则代表此成分无致痘风险。