INNTOO印图 营养滋润护发乳
品牌:INNTOO
企业:广州博氏化妆品有限公司
分类:护发素
成分 概略特性 活性 风险 安心度
WATER@!@AQUA
皮肤调理,溶剂 1
鲸蜡硬脂醇
CETEARYL ALCOHOL
皮肤调理,增稠剂,柔润剂,清洁剂,表面活性剂,黏度控制,不透明剂,乳化剂,乳化稳定剂 致痘风险等级(低) 1
环五聚二甲基硅氧烷
CYCLOPENTASILOXANE
皮肤调理,头发调理,增稠剂,柔润剂,溶剂 硅油 3
聚二甲基硅氧烷
DIMETHICONE
皮肤防护,皮肤调理,头发调理,成膜剂,柔润剂,消泡剂 硅油 1-3
硬脂基三甲基氯化铵
STEARTRIMONIUM CHLORIDE
头发调理,抗静电,防腐剂,不透明剂,乳化剂 一般防腐剂
山嵛基三甲基铵甲基硫酸盐
BEHENTRIMONIUM METHOSULFATE
头发调理,抗静电,清洁剂,表面活性剂 4
香精
PARFUM@!@AROMA
吸附剂,香精香料 香精香料
椰油基二甲基铵羟丙基水解角蛋白
COCODIMONIUM HYDROXYPROPYL HYDROLYZED KERATIN
皮肤调理,头发调理,抗静电 1
水解小麦蛋白
HYDROLYZED WHEAT PROTEIN
抗衰,皮肤调理,抗氧化,头发调理,抗静电 1-2
水解玉米蛋白
HYDROLYZED CORN PROTEIN
皮肤调理,头发调理,抗静电,柔润剂 1
水解大豆蛋白
HYDROLYZED SOY PROTEIN
抗衰,皮肤调理,保湿,头发调理,抗静电
水解胶原
HYDROLYZED COLLAGEN
抗衰,皮肤调理,保湿,头发调理,成膜剂,抗静电,柔润剂 1
氨端聚二甲基硅氧烷
AMODIMETHICONE
头发调理,抗静电 硅油 1
羟基乙酸
GLYCOLIC ACID
祛痘,皮肤调理,去角质,pH调节剂 1-4
EDTA 四钠
TETRASODIUM EDTA
螯合剂 2
苯氧乙醇
PHENOXYETHANOL
防腐剂 一般防腐剂 2-4
DMDM 乙内酰脲
DMDM HYDANTOIN
防腐剂,不透明剂 一般防腐剂、甲醛释放体防腐剂 6
甲基氯异噻唑啉酮
METHYLCHLOROISOTHIAZOLINONE
防腐剂,不透明剂 一般防腐剂、MIT/CMIT防腐剂 5
甲基异噻唑啉酮
METHYLISOTHIAZOLINONE
防腐剂,不透明剂 一般防腐剂、MIT/CMIT防腐剂 7
硝酸镁
MAGNESIUM NITRATE
皮肤调理,头发调理,乳化剂,乳化稳定剂 1
氯化镁
MAGNESIUM CHLORIDE
黏度控制 1

温馨提示:
1、 绿色表示安全。橙色表示较安全。红色表示潜在风险成分。灰色表示暂无数据。
2、安全风险从0-10,数字越高代表风险越大,主要针对长期使用之安全性进行评估。
3、致痘风险等级分为【低-中-高】,如没有标记,则代表此成分无致痘风险。