御泥坊氨基酸泥浆精华面膜
品牌:御泥坊
企业:水羊化妆品制造有限公司
分类:其他面膜
成分 概略特性 活性 风险 安心度
WATER@!@AQUA
皮肤调理,溶剂 1
羟乙基脲
HYDROXYETHYL UREA
皮肤调理,保湿,头发调理 1
伊利水云母
ILLITE
皮肤调理,去角质,吸附剂,填充剂,抗结块剂,摩擦剂 1
丁二醇
BUTYLENE GLYCOL
皮肤调理,保湿,溶剂,黏度控制 1
水辉石
HECTORITE
吸附剂,填充剂,增稠剂,黏度控制 1-2
硅石
SILICA
去角质,吸附剂,填充剂,抗结块剂,摩擦剂,肤感调节剂,黏度控制,不透明剂
硅酸铝钾钠
SODIUM POTASSIUM ALUMINUM SILICATE
填充剂 2
CI 77891
CI 77891
着色剂 色素
赖氨酸
LYSINE
皮肤调理,头发调理,抗静电 1
组氨酸
HISTIDINE
皮肤调理,保湿,头发调理,抗静电 1
精氨酸
ARGININE
皮肤调理,头发调理,保湿,抗静电,pH调节剂 1
天冬氨酸
ASPARTIC ACID
抗衰,皮肤调理,抗氧化,头发调理,抗静电 1
苏氨酸
THREONINE
皮肤调理,头发调理,抗静电 1
丝氨酸
SERINE
皮肤调理,保湿,头发调理,抗静电 1
谷氨酸
GLUTAMIC ACID
皮肤调理,保湿,头发调理,抗静电 1
脯氨酸
PROLINE
皮肤调理,头发调理 1
甘氨酸
GLYCINE
皮肤调理,头发调理,抗静电 1
丙氨酸
ALANINE
皮肤调理,抗氧化,头发调理,抗静电 1
缬氨酸
VALINE
皮肤调理,头发调理,抗静电 1
异亮氨酸
ISOLEUCINE
皮肤调理,头发调理,抗静电,柔润剂 1
亮氨酸
LEUCINE
皮肤调理,头发调理,抗静电 1
酪氨酸
TYROSINE
皮肤调理,头发调理,抗静电 1
苯丙氨酸
PHENYLALANINE
皮肤调理,头发调理,抗静电 1
甜菜碱
BETAINE
皮肤调理,头发调理,保湿,抗静电,表面活性剂,黏度控制 1
PCA 钠
SODIUM PCA
皮肤调理,控油,头发调理,保湿,抗静电 1
乳酸钠
SODIUM LACTATE
去角质,保湿,pH调节剂 1-3
吡咯烷酮羧酸
PCA
皮肤调理,头发调理,保湿 2
赖氨酸盐酸盐
LYSINE HCL
皮肤调理,头发调理,柔润剂 1
辛酰甘氨酸
CAPRYLOYL GLYCINE
皮肤调理,控油,头发调理,气味抑制剂,清洁剂,表面活性剂 1
烟酰胺
NIACINAMIDE
抗糖化,抗衰,皮肤调理,抗氧化,头发调理,去角质,保湿 1
肌醇
INOSITOL
皮肤调理,保湿,头发调理,抗静电,皮肤渗透剂 1
泛醇
PANTHENOL@!@UBIQUINOL
指甲护理,皮肤防护,皮肤调理,抗氧化,头发调理,保湿,抗静电,柔润剂 1
尿囊素
ALLANTOIN
修护,舒敏,皮肤防护,皮肤调理,收敛,头发调理,保湿 1
植物甾醇/辛基十二醇月桂酰谷氨酸酯
PHYTOSTERYL/OCTYLDODECYL LAUROYL GLUTAMATE
皮肤调理,柔润剂 1
生育酚(维生素E)
TOCOPHEROL
修护,抗衰,皮肤调理,抗氧化,保湿 致痘风险等级(低) 1
玉兰(MAGNOLIA DENUDATA)花提取物
MAGNOLIA DENUDATE FLOWER EXTRACT
抗衰,舒敏,皮肤调理,抗氧化
牡丹(PAEONIA SUFFRUTICOSA)根皮提取物
PAEONIA SUFFRUTICOSA ROOT BARK EXTRACT
收敛,抗氧化
黄芩(SCUTELLARIA BAICALENSIS)提取物
SCUTELLARIA BAICALENSIS EXTRACT
抗氧化 1
双丙甘醇
DIPROPYLENE GLYCOL
保湿,溶剂,黏度控制 1-2
对羟基苯乙酮
HYDROXYACETOPHENONE
抗氧化 1
聚丙烯酰胺
POLYACRYLAMIDE
增稠剂,成膜剂,抗静电,粘合剂 2-4
C13-14 异链烷烃
C13-14 ISOPARAFFIN
皮肤调理,柔润剂,溶剂 1
月桂醇聚醚-7
LAURETH-7
清洁剂,表面活性剂,乳化剂 1-3
氢氧化铝
ALUMINUM HYDROXIDE
皮肤防护,皮肤调理,保湿,增稠剂,柔润剂,黏度控制,不透明剂 1
1,2-己二醇
1,2-HEXANEDIOL
皮肤调理,保湿,溶剂 1
CI 77288
CI 77288
着色剂 色素
CI 77492
CI 77492
着色剂 色素

温馨提示:
1、 绿色表示安全。橙色表示较安全。红色表示潜在风险成分。灰色表示暂无数据。
2、安全风险从0-10,数字越高代表风险越大,主要针对长期使用之安全性进行评估。
3、致痘风险等级分为【低-中-高】,如没有标记,则代表此成分无致痘风险。