描方御颜清润净肤洁面乳
品牌:描方御颜
企业:广州市澳莱化妆品有限公司
分类:洁面乳
成分 概略特性 活性 风险 安心度
WATER@!@AQUA
溶剂 1
硬脂酸
STEARIC ACID
清洁剂,表面活性剂,乳化稳定剂 致痘风险等级(低) 1
甘油
GLYCERIN
保湿 1-2
月桂酸
LAURIC ACID
清洁剂,表面活性剂,乳化剂 致痘风险等级(高) 1
棕榈酸
PALMITIC ACID
润肤剂,清洁剂,表面活性剂 致痘风险等级(低) 1
氢氧化钾
POTASSIUM HYDROXIDE
清洁剂,表面活性剂,pH调节剂 2-5
椰油酰胺丙基羟基磺基甜菜碱
COCAMIDOPROPYL HYDROXYSULTAINE
皮肤调理,头发调理,增稠剂,抗静电,清洁剂,表面活性剂,黏度控制 1
PEG-7 甘油椰油酸酯
PEG-7 GLYCERYL COCOATE
润肤剂,清洁剂,溶剂,表面活性剂,乳化剂 含PEG的成分 1-4
棕榈仁油酰胺 DEA
PALM KERNELAMIDE DEA
清洁剂,表面活性剂,黏度控制,乳化剂,乳化稳定剂 1-2
鲸蜡硬脂醇
CETEARYL ALCOHOL
皮肤调理,乳化稳定剂 1
丙二醇
PROPYLENE GLYCOL
保湿 3
氯化钠
SODIUM CHLORIDE
皮肤调理,口腔护理,乳化稳定剂 1
苯氧乙醇
PHENOXYETHANOL
防腐剂 一般防腐剂 2-4
花生酸
ARACHIDIC ACID
清洁剂,表面活性剂,不透明剂,乳化剂 致痘风险等级(低) 1
(日用)香精
FRAGRANCE
吸附剂,香精香料 香精香料
EDTA 二钠
DISODIUM EDTA
螯合剂 1
乙基己基甘油
ETHYLHEXYLGLYCERIN
皮肤调理,保湿 2
癸酸
CAPRIC ACID
清洁剂,表面活性剂,乳化剂 致痘风险等级(低) 1
肉豆蔻酸
MYRISTIC ACID
清洁剂,表面活性剂,乳化剂 致痘风险等级(中) 1
丁二醇
BUTYLENE GLYCOL
保湿 1
银耳(TREMELLA FUCIFORMIS)子实体提取物
TREMELLA FUCIFORMIS SPOROCARP EXTRACT
抗氧化,保湿 1
燕麦(AVENA SATIVA)麸皮提取物
AVENA SATIVA (OAT) BRAN EXTRACT
抗衰,抗氧化,头发调理,保湿 1
库拉索芦荟(ALOE BARBADENSIS)叶提取物
ALOE BARBADENSIS LEAF EXTRACT
皮肤调理,抗氧化,口腔护理,保湿 1-3
苹果(PYRUS MALUS)果提取物
PYRUS MALUS (APPLE) FRUIT EXTRACT
健美,抗氧化,抗衰,保湿 1
石榴(PUNICA GRANATUM)果皮提取物
PUNICA GRANATUM PERICARP EXTRACT
抗衰,皮肤调理,收敛,抗氧化

温馨提示:
1、 绿色表示安全。橙色表示较安全。红色表示潜在风险成分。灰色表示暂无数据。
2、安全风险从0-10,数字越高代表风险越大,主要针对长期使用之安全性进行评估。
3、致痘风险等级分为【低-中-高】,如没有标记,则代表此成分无致痘风险。