SAMPAR Glamour Shot Foundation
品牌:欣蔓
分类:其他底妆产品
成分 概略特性 活性 风险 安心度
WATER@!@AQUA
皮肤调理,溶剂 1
环聚二甲基硅氧烷
CYCLOMETHICONE
皮肤调理,头发调理,抗静电,柔润剂,溶剂 硅油 6
甜菜(BETA VULGARIS)根提取物
BETA VULGARIS (BEET) ROOT EXTRACT
皮肤调理 1
聚二甲基硅氧烷
DIMETHICONE
皮肤防护,皮肤调理,头发调理,成膜剂,柔润剂,消泡剂 硅油 1-3
甘油
GLYCERIN
皮肤防护,皮肤调理,头发调理,口腔护理,保湿,变性剂,溶剂,黏度控制 1-2
VP/VA 共聚物
VP/VA COPOLYMER
发用定型,成膜剂,粘合剂 1
水解玉米淀粉
HYDROLYZED CORN STARCH
皮肤调理,保湿,粘合剂,黏度控制 1
蔗糖棕榈酸酯
SUCROSE PALMITATE
皮肤调理,柔润剂,清洁剂,表面活性剂,乳化剂 1
聚丙烯酰胺
POLYACRYLAMIDE
增稠剂,成膜剂,抗静电,粘合剂 2-4
羟丙基甲基纤维素
HYDROXYPROPYL METHYLCELLULOSE
增稠剂,成膜剂,抗静电,清洁剂,粘合剂,表面活性剂,黏度控制,乳化稳定剂 1
氨端聚二甲基硅氧烷
AMODIMETHICONE
头发调理,抗静电 硅油 1
燕麦(AVENA SATIVA)仁提取物
AVENA SATIVA (OAT) KERNEL EXTRACT
皮肤调理,抗氧化,摩擦剂,柔润剂 1
苯氧乙醇
PHENOXYETHANOL
防腐剂 一般防腐剂 2-4
辛甘醇
CAPRYLYL GLYCOL
皮肤调理,头发调理,保湿,柔润剂,气味抑制剂,溶剂 1
C13-14 异链烷烃
C13-14 ISOPARAFFIN
皮肤调理,柔润剂,溶剂 1
氯苯甘醚
CHLORPHENESIN
防腐剂,不透明剂 一般防腐剂 3
生育酚乙酸酯
TOCOPHERYL ACETATE
抗衰,皮肤调理,抗氧化,保湿 2-3
甘油亚油酸酯
GLYCERYL LINOLEATE
皮肤调理,柔润剂,表面活性剂,乳化剂 1-3
苯基聚三甲基硅氧烷
PHENYL TRIMETHICONE
皮肤调理,头发调理,柔润剂,消泡剂 硅油 1
聚乙烯
POLYETHYLENE
增稠剂,成膜剂,摩擦剂,黏度控制,乳化稳定剂 1
月桂醇聚醚-7
LAURETH-7
清洁剂,表面活性剂,乳化剂 1-3
丁二醇
BUTYLENE GLYCOL
皮肤调理,保湿,溶剂,黏度控制 1
木糖醇
XYLITOL
皮肤调理,保湿 1
苯甲醇
BENZYL ALCOHOL
吸附剂,溶剂,防腐剂,香精香料,黏度控制,不透明剂 香精香料、一般防腐剂 4-6
透明质酸钠
SODIUM HYALURONATE
抗衰,皮肤调理,保湿 1
1,2-戊二醇
PENTYLENE GLYCOL
皮肤调理,保湿,增溶剂,溶剂 1
辣薄荷(MENTHA PIPERITA)提取物
MENTHA PIPERITA (PEPPERMINT) EXTRACT
舒敏,气味抑制剂,清凉剂,清洁剂 4
乙基己基甘油
ETHYLHEXYLGLYCERIN
皮肤调理,保湿,柔润剂,气味抑制剂 2
甲基异噻唑啉酮
METHYLISOTHIAZOLINONE
防腐剂,不透明剂 一般防腐剂、MIT/CMIT防腐剂 7
牛油果树(BUTYROSPERMUM PARKII)籽饼提取物
BUTYROSPERMUM PARKII (SHEA) SEEDCAKE EXTRACT
皮肤防护,皮肤调理
山梨酸钾
POTASSIUM SORBATE
防腐剂,不透明剂 一般防腐剂 2
柠檬酸
CITRIC ACID
去黑头,去角质,保湿,螯合剂,pH调节剂 1-2

温馨提示:
1、 绿色表示安全。橙色表示较安全。红色表示潜在风险成分。灰色表示暂无数据。
2、安全风险从0-10,数字越高代表风险越大,主要针对长期使用之安全性进行评估。
3、致痘风险等级分为【低-中-高】,如没有标记,则代表此成分无致痘风险。