余几三因肌源次抛精华液成分表和安全分析 | 粤G妆网备字2023108674

余几三因肌源次抛精华液

品牌：余几
企业：广东小也生物科技有限公司
分类：精华液

成分	概略特性	安心度
水 WATER@!@AQUA	溶剂	1
丁二醇 BUTYLENE GLYCOL	保湿	1
甘油 GLYCERIN	保湿	1-2
烟酰胺 NIACINAMIDE	紧致,抗糖化,抗氧化,保湿	1
抗坏血酸四异棕榈酸酯 ASCORBYL TETRAISOPALMITATE	抗衰,抗氧化	1
α-熊果苷 ALPHA-ARBUTIN	舒缓,抗氧化	1
四氢甲基嘧啶羧酸 ECTOIN	紧致,修护,抗衰,舒缓,抗氧化,保湿	1
甘露糖醇 MANNITOL	皮肤调理,保湿,粘合剂	1
1,2-己二醇 1,2-HEXANEDIOL	保湿	1
羟丙基四氢吡喃三醇 HYDROXYPROPYL TETRAHYDROPYRANTRIOL	保湿,抗皱,紧致,抗衰,抗氧化	1
对羟基苯乙酮 HYDROXYACETOPHENONE	抗氧化	1
二裂酵母发酵产物溶胞产物 BIFIDA FERMENT LYSATE	紧致,皮肤调理,抗氧化,保湿	1
卡波姆 CARBOMER	增稠剂	1
1,2-戊二醇 PENTYLENE GLYCOL	保湿	1
精氨酸 ARGININE	保湿,润肤剂,pH调节剂	1
透明质酸钠 SODIUM HYALURONATE	修护,抗衰,舒缓,保湿	1
松蕈(ARMILLARIA MATSUTAKE)提取物 ARMILLARIA MATSUTAKE EXTRACT	皮肤调理
鞘氨醇单胞菌(SPHINGOMONAS)发酵产物提取物 SPHINGOMONAS FERMENT EXTRACT	皮肤调理	1
EDTA 二钠 DISODIUM EDTA	螯合剂	1
燕麦(AVENA SATIVA)β-葡聚糖 OAT BETA GLUCAN	抗皱,紧致,舒缓,保湿,抗衰	1
光果甘草(GLYCYRRHIZA GLABRA)根提取物 GLYCYRRHIZA GLABRA (LICORICE) ROOT EXTRACT	抗氧化,舒缓	5
磷酸二氢钠 SODIUM PHOSPHATE	pH调节剂	1
磷酸氢二钠 DISODIUM PHOSPHATE	pH调节剂	1
辛甘醇 CAPRYLYL GLYCOL	保湿,溶剂	1
麦角硫因 ERGOTHIONEINE	舒缓,抗衰,抗氧化	1
九肽-1 NONAPEPTIDE-1	去黑眼圈	1
乙酰基六肽-8 ACETYL HEXAPEPTIDE-8	抗衰,抗氧化,保湿	1

温馨提示：
1、绿色表示安全。橙色表示较安全。红色表示潜在风险成分。灰色表示暂无数据。
2、安全风险从0-10,数字越高代表风险越大，主要针对长期使用之安全性进行评估。
3、致痘风险等级分为【低-中-高】，如没有标记，则代表此成分无致痘风险。